[发明专利]一种电感耦合等离子体刻蚀设备

权利要求书

1.一种电感耦合等离子体刻蚀设备，包括反应腔室(1)，其特征在于：还包括快速无扰动气体注入装置和尾气处理装置(2)，所述快速无扰动气体注入装置包括相互独立的刻蚀气体注入组件(3)和侧壁沉积气体注入组件(4)，所述刻蚀气体注入组件(3)和所述侧壁沉积气体注入组件(4)均包括进气管(100)和两路注入管(200)，所述进气管(100)通过一路所述注入管(200)与所述反应腔室(1)连通，并通过另一路注入管(200)与所述尾气处理装置(2)连通，所述反应腔室(1)的顶部设有匀流顶盖(11)，所述匀流顶盖(11)上设有第一导流环(111)、一对第一连接管(112)及多条第一导流槽(113)，一对第一连接管(112)对称布置于所述第一导流环(111)两侧，刻蚀气体注入组件(3)的注入管(200)通过一对第一连接管(112)与第一导流环(111)连通，多条第一导流槽(113)平行等距布置于第一导流环(111)内且各第一导流槽(113)两端均与第一导流环(111)连通，各第一导流槽(113)底部开设有多个第一进气孔(114)，多个所述第一进气孔(114)沿第一导流槽(113)长度方向均匀布置，所述匀流顶盖(11)上还设有第二导流环(121)、一对第二连接管(122)及多条第二导流槽(123)，一对第二连接管(122)对称布置于所述第二导流环(121)两侧，侧壁沉积气体注入组件(4)的注入管(200)通过一对第二连接管(122)与第二导流环(121)连通，多条第二导流槽(123)平行等距布置于第二导流环(121)内且各第二导流槽(123)两端均与第二导流环(121)连通，各第二导流槽(123)底部开设有多个第二进气孔(124)，多个所述第二进气孔(124)沿第二导流槽(123)长度方向均匀布置，所述第一导流环(111)和所述第一导流槽(113)设于所述匀流顶盖(11)上部，所述第二导流环(121)和所述第二导流槽(123)设于所述匀流顶盖(11)底面，所述匀流顶盖(11)底面与所述第二导流槽(123)对应处设有朝下布置的凸起(131)，所述第二进气孔(124)设于所述凸起(131)上。

2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述进气管(100)上设有流量控制阀(101)和第一开关阀(102)，所述注入管(200)上设有第二开关阀(201)。

3.根据权利要求2所述的电感耦合等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述流量控制阀(101)为质量流量控制器，所述第一开关阀(102)和所述第二开关阀(201)均为气动阀。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的电感耦合等离子体刻蚀设备，其特征在于：多条所述第一导流槽(113)和多条所述第二导流槽(123)依次间隔布置。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的电感耦合等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述匀流顶盖(11)为上中下三层结构。