[发明专利]一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池

说明书

本发明提供一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池，包括样品室腔体和样品座，所述样品室腔体的上表面和下表面分别设有氟化钙窗口框和透射光窗口，所述样品室腔体的左侧面开设有样品放置口，所述样品座通过所述样品放置口固定于所述样品室腔体内的中空腔中，所述样品座具有自其上表面下凹的样品容纳腔，所述样品座的上表面与所述样品室腔体密封设置，所述样品室腔体的右侧面开设有多个并列设置的气溶胶出气通道，所述样品室腔体的左侧面开设有多个并列设置的载气进气通道，所述气溶胶出气通道和所述载气进气通道均向内延伸与所述样品容纳腔连通。本发明的有益效果：在能放置大量样品的同时，还能克服气溶胶传输速度慢，记忆效应显著等缺陷。

技术领域

本发明涉及激光剥蚀技术领域，尤其涉及一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池。

背景技术

激光剥蚀电感耦合等离子体光/质谱技术是最为成功和有效的直接对固体样品进行元素或同位素分析的技术之一，该技术在地球科学、材料科学、生命科学、化学等领域得到了广泛的应用。激光剥蚀技术是由激光器、激光光路、观察系统、样品剥蚀及高精度移动系统组成。其基本工作原理是激光器产生的激光经过光路聚焦至样品表面,样品表面产生的气溶胶通过载气传送至等离子体质谱进行分析。激光剥蚀池是分析样品放置的地方也是激光剥蚀发生的位置。激光剥蚀池的设计对气溶胶的传输和元素分馏有着重要的影响。

一般来讲，激光剥蚀池体积越小，气溶胶传输速度越快，记忆效应越小。但小体积激光剥蚀池放置样品数量有限，需要频繁换样，且无法应用于大体积样品的分析。传统大体积激光剥蚀池存在的主要问题是气溶胶传输速度慢，记忆效应显著，且存在严重的位置效应。

如何组合大小体积剥蚀池的优点是当前激光剥蚀池设计面临的一个主要挑战。目前，不少激光厂家推出了双体积激光剥蚀池，即在大的激光剥蚀池里面再设置一个小的剥蚀池，这种设计一定程度上同时具备了大小剥蚀池的优点，但这种剥蚀池操作和控制复杂化，制作成本大幅提高，受到小剥蚀池限制，这种剥蚀池对样品表面的平整度提出了更高的要求。

发明内容

有鉴于此，本发明的实施例提供了一种在能放置大量样品的同时，还能克服气溶胶传输速度慢，记忆效应显著等缺陷，且结构简单、便于操作的大尺寸多通道层流激光剥蚀池。

本发明的实施例提供了一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池，包括样品室腔体和样品座，所述样品室腔体的上表面和下表面分别设有氟化钙窗口框和透射光窗口，所述样品室腔体的左侧面开设有样品放置口，所述样品座通过所述样品放置口固定于所述样品室腔体内的中空腔中，所述样品座具有自其上表面下凹的样品容纳腔，所述样品座的上表面和左端颈部与所述样品室腔体密封设置，所述样品室腔体的右侧面开设有多个并列设置的气溶胶出气通道，所述样品室腔体的左侧面开设有多个并列设置的载气进气通道，所述气溶胶出气通道和所述载气进气通道均向内延伸与所述样品容纳腔连通。

进一步地，一载气进气接头的一端穿过所述样品室腔体的前侧面或者后侧面，并与多个所述载气进气通道垂直连通，所有载气进气通道靠近外界的一端被封堵,以堵阻止载气外溢。

进一步地，所述载气进气通道的数量为2～5个，所述载气进气通道的内径为0.05～0.2mm。

进一步地，所述样品座的上表面具有样品座顶部内腔密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述样品座的上表面通过该氟胶O型密封圈与所述样品室腔体的顶部内腔密封。

进一步地，所述样品座的左端颈部具有样品座颈部密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述样品座的左端颈部通过该氟胶O型密封圈与所述样品室腔体的左端颈部密封。

进一步地，所述样品室腔体上表面凹设有氟化钙窗口框沉槽，所述氟化钙窗口框的侧边四周设有氟化钙窗口框密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述氟化钙窗口框的侧边四周通过该氟胶O型密封圈与所述氟化钙窗口框沉槽的侧壁密封。

进一步地，所述氟化钙窗口框沉槽的开口端的一侧边上设有多个半圆形沉槽。