[发明专利]一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池

权利要求书

1.一种大尺寸多通道层流激光剥蚀池，包括样品室腔体和样品座，所述样品室腔体的上表面和下表面分别设有氟化钙窗口框和透射光窗口，所述样品室腔体的左侧面开设有样品放置口，所述样品座通过所述样品放置口固定于所述样品室腔体内的中空腔中，其特征在于：所述样品座具有自其上表面下凹的样品容纳腔，所述样品座的上表面和左端颈部与所述样品室腔体密封设置，所述样品室腔体的右侧面开设有多个并列设置的气溶胶出气通道，所述样品室腔体的左侧面开设有多个并列设置的载气进气通道，所述气溶胶出气通道和所述载气进气通道均向内延伸与所述样品容纳腔连通；所述载气进气通道的数量为2～5个，所述载气进气通道的内径为0.05～0.2mm；所述气溶胶出气通道为6～12个,每一所述气溶胶出气通道的内径为1～3mm；所述激光剥蚀池还包括一气帘汇集接头，所述气帘汇集接头具有多个与所述气溶胶出气通道对接的气帘槽，所述样品室腔体的右侧面还设有一排气螺丝。

2.如权利要求1所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：一载气进气接头的一端穿过所述样品室腔体的前侧面或者后侧面，并与多个所述载气进气通道垂直连通，所有载气进气通道靠近外界的一端被封堵,以堵阻止载气外溢。

3.如权利要求1所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：所述样品座的上表面具有样品座顶部内腔密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述样品座的上表面通过该氟胶O型密封圈与所述样品室腔体的顶部内腔密封。

4.如权利要求1所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：所述样品座的左端颈部具有样品座颈部密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述样品座的左端颈部通过该氟胶O型密封圈与所述样品室腔体的左端颈部密封。

5.如权利要求1所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：所述样品室腔体上表面凹设有氟化钙窗口框沉槽，所述氟化钙窗口框的侧边四周设有氟化钙窗口框密封圈槽，其内放置有氟胶O型密封圈，所述氟化钙窗口框的侧边四周通过该氟胶O型密封圈与所述氟化钙窗口框沉槽的侧壁密封。

6.如权利要求5所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：所述氟化钙窗口框沉槽的开口端的一侧边上设有多个半圆形沉槽。

7.如权利要求1所述的大尺寸多通道层流激光剥蚀池，其特征在于：所述样品室腔体内还设有二隐形式导流槽，所述二 隐形式导流槽对称的位于多个并列设置的所述载气进气通道的相对两侧。