[发明专利]一种超快速多出口激光剥蚀池有效

专利信息
申请号: 201710338858.2 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN107202731B 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 胡兆初;陈力飞;史光予;罗涛;张文;宗克清;刘勇胜 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: G01N1/44 分类号: G01N1/44;G01N27/62
代理公司: 42238 武汉知产时代知识产权代理有限公司 代理人: 曹雄
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 样品室壳体 快插式 样品池 上表面 样品容纳腔 样品放置 出气孔 进气孔 左侧面 涡流 并列设置 记忆效应 密封设置 剥蚀 多出口 观察窗 透射光 下表面 样品室 右侧面 中空腔 颈部 下凹 向内 载气 连通 激光 体内 延伸
【说明书】:

发明提供一种超快速多出口激光剥蚀池,包括样品室壳体和快插式样品池,所述样品室壳体的上表面和下表面分别设有观察窗和透射光窗口,所述样品室壳体的左侧面开设有样品放置口,所述快插式样品池通过所述样品放置口固定于所述样品室壳体内的中空腔中,所述快插式样品池具有自其上表面下凹的样品容纳腔,所述快插式样品池的上表面和颈部与所述样品室壳体密封设置,所述样品室壳体的右侧面开设有多个并列设置的出气孔,所述样品室壳体的左侧面开设有一载气进气孔,所述出气孔和所述载气进气孔均向内延伸与所述样品容纳腔连通。本发明的有益效果:能够有效的遏制涡流的产生和减轻甚至消除记忆效应。

技术领域

本发明涉及激光剥蚀技术技术领域,尤其涉及一种超快速多出口激光剥蚀池。

背景技术

激光剥蚀电感耦合离子体质谱(LA-ICP-MS)是产生于80年代中后期的一门固体分析新技术。LA-ICP-MS技术具有原位、实时、快速的分析优势以及较高灵敏度,较好的空间分辨率,多元素测定及可提供同位素比值信息的检测能力。该技术已在地球科学、材料科学、环境科学、核科学等领域得到了广泛的应用。现已成为主流常规的矿物微区元素和同位素分析仪器。

在激光剥蚀等离子体质谱分析中,首先需要把待测样品放在激光剥蚀池里面,激光剥蚀样品表面产生的样品气溶胶由载气带入等离子体质谱进行元素和同位素分析。不同激光剥蚀池的设计将对元素分析信号强度、信号稳定性、元素分馏以及做样的效率产生重大的影响。传统的激光剥蚀池侧边的位置容易产生涡流,从而导致较严重的元素分馏和记忆效应,最终影响气溶胶的传输和分析结果的准确性。传统的激光剥蚀池还存在的问题是换样时间长,换样过程中容易混入空气导致等离子体熄火。

传统激光剥蚀池只有一个出气口,跟进气口相对应,水平贯穿样品室侧面。这样在出气的过程中,只有剥蚀池中间及靠近出气口位置的气溶胶容易被传输。由于只能单一出气口出气,所以很多边角位置的气溶胶不能很好被传输,容易产生涡流,最终影响分析结果的稳定性。另外由于样品室放置的样品数量有限,导致换样繁琐、频繁、工作效率较低。

传统激光剥蚀池进气口管道内径一般大于0.5mm,进气口管道内径越大,在载气流量一定的情况下,气体流速越低。低的气体流速导致气溶胶在剥蚀池待的时间越长,从而导致较严重的记忆效应。激光剥蚀点位置气体流速越低也会导致激光剥蚀产生的固体气溶胶颗粒尺寸越大,固体气溶胶颗粒尺寸越大在等离子体中越容易离子化不完全,从而产生元素分馏。

发明内容

有鉴于此,本发明的实施例提供了一种有效的能够遏制涡流的产生和减轻甚至消除记忆效应的超快速多出口激光剥蚀池。

本发明的实施例提供了一种超快速多出口激光剥蚀池,包括样品室壳体和快插式样品池,所述样品室壳体的上表面和下表面分别设有观察窗和透射光窗口,所述样品室壳体的左侧面开设有样品放置口,所述快插式样品池通过所述样品放置口固定于所述样品室壳体内的中空腔中,所述快插式样品池具有自其上表面下凹的样品容纳腔,所述快插式样品池的上表面和颈部与所述样品室壳体密封设置,所述样品室壳体的右侧面开设有多个并列设置的出气孔,所述样品室壳体的左侧面开设有一载气进气孔,所述出气孔和所述载气进气孔均向内延伸与所述样品容纳腔连通。

进一步地,一载气进气接头的一端穿过所述样品室壳体的前侧面或者后侧面,并与所述载气进气孔垂直连通,所述载气进气孔靠近外界的一端被封堵,以堵阻止载气外溢。

进一步地,所述载气进气孔的孔径为0.2~0.3mm。

进一步地,所述快插式样品池的上表面具有快插式样品池顶部密封圈槽,其内放置有氟胶O型密封圈,所述快插式样品池的上表面通过该氟胶O型密封圈与所述样品室壳体的顶部密封。

进一步地,所述快插式样品池的颈部具有快插式样品池颈部密封圈槽,其内放置有氟胶O型密封圈,所述快插式样品池的颈部通过该氟胶O型密封圈与所述样品室壳体的左端区域密封。

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