[发明专利]具有排放口的内部溶剂阱

说明书

一种与质谱系统结合的溶剂阱，其包括：壳体，其界定内部空间；潮湿气体入口，其经过配置以从离子源接收气流；液体出口，其经过配置以使液体能依靠重力从所述内部空间流动；以及干燥气体出口，其经过配置以从所述内部空间排出气体。

技术领域

本披露大体上涉及质谱法领域，其包括具有排放口的内部溶剂阱。

背景技术

质谱法是一种分析化学技术，其可以通过测量气相离子的质荷比和丰度来识别存在于样品中的化学物质的量和类型。通常在真空下进行气相离子的分析，同时可以在大气压下引入样品。在液相色谱质谱法中，可以例如通过电喷雾电离使来自液相色谱系统(如高效液相色谱(HPLC)或离子色谱(IC)系统)的洗出液蒸发并电离，以产生气相离子。通常，蒸发和电离在大气压或接近大气压下进行并且可以伴有显著气流。此外，气流可以包括大量蒸发溶剂。为了避免溶剂污染气体操作系统和环境，可能必须在排出气体前从气流中去除溶剂。

通常，已通过将排出气体引向位于邻接于质谱系统的层上的溶剂阱来实现溶剂捕获。当与液相色谱系统组合时，这样可以产生针对可能需要处理的过量溶剂的两个或更多个收集点。

根据前述内容，应了解，需要改良溶剂捕获和收集。

发明内容

在第一方面，与质谱系统结合的溶剂阱可以包括：界定内部空间的壳体；配置成从离子源接收气流的气体入口；配置成使液体能依靠重力从内部空间流动的液体出口；以及配置成从内部空间排出气体的干燥气体出口。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括内部空间中的挡板。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括主动冷却机制。在特定实施例中，主动冷却机制包括热电冷却器、循环冷却剂或其任何组合。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括被动冷却机制。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括冷却气体的入口，以使所述冷却气体与潮湿气体混合。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括聚结介质。

在第一方面的各种实施例中，溶剂阱可以进一步包括传感器，以测量溶剂阱内聚集液体的体积。

在第二方面，质谱系统可以包括：配置成从液体样品产生离子的离子源；配置成测定离子质荷比的质量分析器；以及溶剂阱。溶剂阱可以包括：界定内部空间的壳体；配置成从离子源接收气流的潮湿气体入口；配置成使液体能依靠重力从内部空间流动的液体出口；以及配置成从内部空间排出气体的干燥气体出口。

在第二方面的各种实施例中，离子源可以包括电喷雾源、APCI源或热喷雾离子源。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括内部空间中的挡板。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括主动冷却机制。在特定实施例中，主动冷却机制包括热电冷却器、循环冷却剂或其任何组合。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括被动冷却机制。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括冷却气体的入口，以使所述冷却气体与潮湿气体混合。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括聚结介质。

在第二方面的各种实施例中，溶剂阱可以包括传感器，以测量溶剂阱内聚集液体的体积。

在第三方面，操作质谱仪的方法可以包括：向离子源供应液体样品；雾化液体样品；将充满溶剂的过量气体从液体样品排向所结合的溶剂阱，所结合的溶剂阱包括内部容积、第一气体入口、气体出口以及液体出口；从内部容积内的过量气体中分离至少一部分溶剂；通过液体出口从内部容积排放呈液体形式的部分溶剂；通过气体出口从内部值排出过量气体。