[发明专利]一种电子设备的壳体及其制作方法

说明书

本发明所提供的电子设备的壳体及其制作方法，通过在透光衬底上设置将从透光衬底下表面入射的部分入射光线进行吸收的选择性吸收层，以及光线介质层和光线干涉层，使得从透光衬底下表面入射的光线经过选择性吸收层的反射，光学介质层的折射和投射，以及光线干涉层的干涉后，呈现出炫光闪烁的视觉效果，相比于现有技术中仅设置单调的颜色，本发明的电子设备的壳体视觉效果更佳丰富。

技术领域

本发明涉及电子技术领域，更具体地说，涉及一种电子设备的壳体及其制作方法。

背景技术

随着科学技术的不断发展，电子产品，如手机、平板、笔记本等，越来越多的应用到人们的工作以及日常生活当中，为人们的工作以及日常生活带来了巨大的便利。

目前市场上的电子产品，除在功能上达到用户的操作需求外，还在外观上追求多样化的视觉效果，以期增加电子产品的竞争力，提升产品质量感。

现有技术中，通过在电子产品表面设置不同的颜色，以产生不同的视觉效果。然而，此种视觉效果仍然过于单调。

因此，亟需一种电子设备的壳体，以丰富电子产品的视觉效果。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种电子设备的壳体及其制作方法，视觉效果更佳丰富。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种电子设备的壳体，包括：

透光衬底，所述透光衬底包括上表面和下表面，所述透光衬底的下表面用于入射光线；

位于所述透光衬底上表面的选择性吸收层，所述选择性吸收层用于吸收部分入射光线；

位于所述选择性吸收层上的光学介质层；

位于所述光线介质层上的光线干涉层。

优选的，所述选择性吸收层包括用于反射光线的反射层和用于吸收光线的吸收层。

优选的，所述反射层为铝层，所述铝层的厚度为5nm～5000nm，包括端点值。

优选的，所述吸收层为硝基苯涂层。

优选的，所述光学介质层为二氧化硅层、氟化镁层或冰晶石层，所述光学介质层的厚度为5nm～220nm，包括端点值。

优选的，所述光线干涉层为三氧化二铁层或三氧化二铬层，所述光线干涉层的厚度为5nm～100nm，包括端点值。

一种壳体的制作方法，包括：

提供透光衬底，所述透光衬底包括上表面和下表面，所述透光衬底的下表面用于入射光线；

在所述透光衬底的上表面形成选择性吸收层，所述选择性吸收层用于吸收部分入射光线；

在所述选择性吸收层上形成光学介质层；

在所述光学介质材料层上形成光线干涉层，形成所述壳体。

优选的，所述在所述透光衬底的上表面形成选择性吸收层，包括：

在所述透光衬底的表面形成反射层；

对所述反射层上形成吸收层。

优选的，采用溅射工艺或蒸镀工艺在所述透光衬底的表面形成反射层。

优选的，采用表面喷涂工艺在所述反射层上形成吸收层。

与现有技术相比，本发明所提供的技术方案具有以下优点：