[发明专利]一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置

权利要求书

1.一种有机电致发光显示面板，其特征在于，包括：衬底基板，设置于所述衬底基板上的显示器件，覆盖所述显示器件的应力释放层，以及覆盖所述应力释放层的阻隔膜；其中，

所述阻隔膜包括：至少一层无机阻隔层和至少一层有机阻隔层；其中，

所述无机阻隔层和所述有机阻隔层交替设置，且与所述应力释放层连接的为所述无机阻隔层；

至少在与所述应力释放层连接的所述无机阻隔层中，背离所述应力释放层的一侧设有凹槽结构，且所述凹槽结构内填充干燥剂；

所述凹槽结构为多个相互平行的条状凹槽；

各所述无机阻隔层中的条状凹槽在所述衬底基板上的正投影相互错开。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述条状凹槽的深度大于等于所述无机阻隔层厚度的80％；

各所述条状凹槽的宽度为0.5mm-1mm，相邻所述条状凹槽的距离为200mm-400mm。

3.如权利要求1-2任一项所述的显示面板，其特征在于，所述干燥剂为液体干燥剂。

4.一种如权利要求1-3任一项所述的有机电致发光显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上依次形成显示器件的各膜层以及覆盖所述显示器件的应力释放层；

形成覆盖所述应力释放层的阻隔膜；其中，

形成所述阻隔膜至少包括：

形成覆盖所述应力释放层且在背离所述应力释放层的一侧具有凹槽结构的无机阻隔层；所述凹槽结构为多个相互平行的条状凹槽；各所述无机阻隔层中的条状凹槽在所述衬底基板上的正投影相互错开；

在各所述凹槽结构内填充干燥剂；

形成覆盖所述无机阻隔层的有机阻隔层。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上依次形成显示器件的各膜层以及覆盖所述显示器件的应力释放层，包括：

在所述衬底基板上形成所述显示器件的各膜层；

采用蒸镀或喷涂的方式在所述衬底基板上形成覆盖所述显示器件且厚度为50nm-500nm的应力释放层。

6.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述应力释放层且在背离所述应力释放层的一侧具有凹槽结构的无机阻隔层，包括：

采用化学气相沉积、溅射或原子力沉积的方式形成覆盖所述应力释放层且在背离所述应力释放层的一侧具有凹槽结构的厚度为0.05μm-2.5μm的无机阻隔层。

7.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述无机阻隔层的有机阻隔层，包括：

采用喷涂、喷墨打印或印刷的方式形成覆盖所述无机阻隔层的厚度为0.5μm-5μm有机阻隔层。

8.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-3任一项所述的有机电致发光显示面板。