[发明专利]磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置在审

专利信息
申请号: 201710284561.2 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107190293A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 张鹏;林敏;徐利军;张卫东;陈义珍;罗瑞;夏文 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: C25D7/00 分类号: C25D7/00;C25D17/00;C25D17/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 流体动力学 沉积 法制 高分辨率 放射源 装置
【权利要求书】:

1.一种磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:包括二维定位支架(1)和设置在二维定位支架上的永磁体调控台面(2),所述的永磁体调控台面(2)中部设有盛装沉积液的沉积槽(3),在沉积槽(3)的两侧设有用于固定永磁体(4)的磁铁固定板和用于调节永磁体位置的位移传动装置;在所述二维定位支架(1)的上部设有与电源正极相连的电极,电极的下端安装阳极丝,阳极丝从沉积槽(3)的顶部伸入到沉积液中;在沉积槽底部设有紧密接触的阴极沉积源片(31)和阴极导出垫片(32),在所述阴极导出垫片(33)底部连接阴极导出线(7),所述阴极导出线(7)连接电源负极。

2.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述的用于调节永磁体位置的位移传动装置包括轴承座(23)、丝杠(21)和滑块(22),丝杠(21)设置在轴承座(23)上,滑块(22)与丝杠(21)螺纹连接,磁铁固定板固定在滑块(22)上。

3.如权利要求1或2所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:位于沉积槽(3)两侧的位移传动装置对称设置。

4.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述的二维定位支架(1)包括底板和垂直固定架,永磁体调控台面(2)安装在所述底板上,垂直固定架上设有呈水平状的垂直升降臂(6),垂直升降臂(6)通过电动调节丝杠螺母传动装置实现上下移动,所述电极以及用于控制电极的电极旋转电机均设置在垂直升降臂上。

5.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述的二维定位支架(1)和永磁体调控台面(2)均采用无磁性材料;永磁体(4)材料选择钕铁硼,永磁体的N-S极方向垂直于沉积槽的轴线方向。

6.如权利要求1所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述沉积槽(3)的底部通过螺纹底盖(33)进行密封,螺纹底盖(33)的中心开孔,在沉积槽底部螺纹底盖(33)内从下向上依次设置阴极导出垫片(32)和阴极沉积源片(31),所述阴极导出线(7)从螺纹底盖(33)的开孔引出。

7.如权利要求6所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述沉积槽(3)的顶部设有倒圆锥形的防溅装置(34),圆锥形的顶端设有供阳极丝穿过的开口。

8.如权利要求7所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述沉积槽(3)设置在沉积槽支架(5)上,沉积槽支架(5)安装在永磁体调控台面(2)中部;所述沉积槽支架(5)为上部设有凹槽的柱形结构,沉积槽(3)置于所述凹槽内,在沉积槽支架(5)的一侧设有供阴极导出线(7)引出的小口。

9.如权利要求8所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述的沉积槽(3)、螺纹底盖(31)、防溅装置(34)和沉积槽支架(5)均可采用聚四氟乙烯材料或者玻璃材料。

10.如权利要求1或6所述的磁流体动力学电沉积法制备高分辨率α放射源的装置,其特征在于:所述的阴极导出垫片(32)采用不锈钢材料;所述的阴极沉积源片(31)采用304不锈钢或银材料。

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