[发明专利]一种微型叠层片式元器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201710284266.7 申请日: 2017-04-26
公开(公告)号: CN107123540B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 沈奇杰;李有云;戴正立;王帅;李青;陆胥龙;汪林明;汪嘉;蔡凯;冯国精 申请(专利权)人: 贵阳顺络迅达电子有限公司
主分类号: H01F41/04 分类号: H01F41/04;H01P11/00
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 胡绪东
地址: 550014 贵州省贵阳市白*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 叠层片式元器件 印刷 冲洗 曝光 内电极 元器件 线条 制造 图案 大小控制 光敏陶瓷 光敏银浆 胚体成型 设计空间 印刷浆料 电镀 烧结 浆料层 上基板 微型的 下基板 引出线 烘烤 倒角 端银 发泡 光敏 排胶 烧银 制浆 生产工艺 成型 切割 清晰 重复
【权利要求书】:

1.一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:该方法包括以下步骤:

(1)制浆:制备元器件使用的光敏陶瓷印刷浆料,制备光敏印刷银浆,制备光敏Mark印刷浆料;

(2)印刷:在承载板整个表面上印刷光敏Mark浆料层;

(3)曝光冲洗:采用设计好的铬版菲林对Mark浆料层进行曝光和冲洗,保留设计的Mark图案;

(4)印刷:用光敏陶瓷印刷浆料在曝光好Mark图案承载板上印刷设定厚度的下基板;

(5)印刷:在下基板上印刷整个表面的银浆层;

(6)曝光冲洗:采用铬版菲林对大面积的银浆层进行曝光和冲洗,去掉不需要的银层,留下构成内电极的银层线条或图案;

(7)印刷:在曝光好的银层上印刷光敏陶瓷的介质层;

(8)曝光冲洗:采用设计好的铬版菲林对光敏陶瓷的介质层进行曝光和冲洗,对介质层进行通孔,实现上下层的内电极图案的连接导通;

(9)重复(5)~(8)的步骤,直到满足内部结构设计要求为止;

(10)印刷:印刷设定厚度的上基板完成胚体成型;

(11)烘烤:成型的胚体进行烘烤;

(12)切割:胚体贴在热敏胶上进行对位切割;

(13)发泡:将切割完成的生胚产品在热敏胶上进行烘烤发泡分离;

(14)排胶:把生坯产品装匣钵,放置排胶炉使用合适的排胶温度曲线对生坯进行排胶,把生坯内含的有机物进行燃烧和排放;

(15)烧结:排胶完成后的生坯放置烧结炉880-920℃进行烧结;

(16)引出线处理:对烧结后产品的引出端面进行引出线的处理;

(17)倒角:把烧结喷砂后产品的边和角倒成设定角度的圆弧;

(18)端银:对需要引出的输出/输入端、接地端的端面用银浆进行封端处理;

(19)烧银:用银浆封端后的产品进行银的烧附;

(20)电镀:将封端后的产品进行电镀镍层和锡层,实现产品的贴片焊锡功能,元器件的制造完成。

2.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:光敏陶瓷浆料包括以下重量百分比的成分:

陶瓷粉:50%~70%

乙基纤维素:10%~20%

三乙醇胺:5%~10%

邻苯二甲酸二丁酯:5%~10%

消泡剂:0.5%~2%

流平剂:1%~3%

感光剂:1%~5%,由上述各成分制得光敏陶瓷浆料。

3.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:光敏印刷银浆包括以下重量百分比的成分:

银粉:50%~70%

乙基纤维素:10%~20%

三乙醇胺:5%~10%

邻苯二甲酸二丁酯:5%~10%

消泡剂:0.5%~2%

流平剂:1%~3%

感光剂:1%~5%,由上述各成分制得光敏印刷银浆。

4.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:光敏mark印刷浆料包括以下重量百分比的成分:

Mark粉:50%~70%

乙基纤维素:10%~20%

三乙醇胺:5%~10%

邻苯二甲酸二丁酯:5%~10%

消泡剂:0.5%~2%

流平剂:1%~3%

感光剂:1%~5%,由上述各成分制得光敏mark印刷浆料。

5.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征于:在黄光的环境下进行浆料的印刷、曝光显影、冲洗成型。

6.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:步骤(16)中引出线处理:对元器件的侧面引出端面进行喷砂。

7.根据权利要求1所述的一种微型叠层片式元器件的制造方法,其特征在于:喷砂的具体实施步骤:使用全自动喷砂机对100~2000目的金刚砂进行加压喷出,形成高压、快速的砂流,砂流喷向元器件引出端面,砂流与端面产生了快速的撞击和摩擦,击碎并摩擦带走引出端面上浮的玻璃层,使端面上的引出线不被玻璃层覆盖,更好的与端电极衔接。

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