[发明专利]高PPI面板CF光罩共用的方法

说明书

本发明提供一种高PPI面板CF光罩共用的方法。该高PPI面板CF光罩共用的方法中，用于与光罩配合对位的覆盖标记在黑色矩阵上分布于不同水平线上。该高PPI面板CF光罩共用的方法中，将光罩相对对应的覆盖标记在横向平移一倍子像素距离或两倍子像素距离，再纵向平移一倍像素距离或两倍像素距离，使用该光罩制备色阻。本发明高PPI面板CF光罩共用的方法实现了更加有效且更方便光罩共用的设计，既可以水平方向移动，又可以竖直方向作动；水平或者竖直方向移动控制使用同一光罩制备RGB色阻，可降低成本。

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种高PPI面板CF光罩共用的方法。

背景技术

液晶显示面板通常由彩色滤光片(CF)基板、薄膜晶体管阵列基板以及配置于两基板间的液晶层所构成，并分别在两基板的相对内侧设置像素电极、公共电极，通过施加电压控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。目前，随着高PPI(像素密度)面板日益受到市场欢迎，各面板生产厂家也需要不断提升制造技术以适应新产品的要求。

如图1所示，其为现有技术中采用光罩共用方式制备CF的过程示意图。基板(Glass)上已经制备有黑色矩阵(BM)，首先利用RGB光罩(RGB Mask)根据对准标记(Alignment Mark)在基板上制备一种颜色的色阻，例如R色阻，作为后续制程的覆盖标记，为确保制得合格的产品，制程中需要通过测量覆盖标记(Overlay Mark)与RGB光罩的相对距离来校准RGB光罩的位置。通常，覆盖标记都是以水平排布设计，即覆盖标记均在一条水平线上。如图1所示，色阻与黑色矩阵的相对位置OVL可以表示为OVL＝((X1-X2)，(Y1-Y2))，可以看出当对位准确时OVL＝(0,0)。

为了共用光罩，需要将RGB光罩分别做1子像素距离的平移(1H shift)和2子像素距离的平移(2H shift)，以便再用该光罩制作另外两种颜色的色阻。光罩平移时需要与基板上的覆盖标记10进行比较来校准位置。如图1中所示，通过测量H，a，b及c的值，可以校准RGB光罩与覆盖标记10的相对位置，以确保RGB光罩平移到准确位置来制备其他颜色的色阻，最终制得合格的产品。图中黑色代表的是BM光罩的图形，RGB分别代表RGB光罩图形，覆盖标记10均在一条水平线上。

但是，高PPI面板在采用常规光罩共用设计时会遇到问题。现有技术中通常覆盖标记都是以水平排布设计，即覆盖标记均在一条水平线上。这种设计不利于小像素的光罩共用情况。参见图2，其为高PPI面板CF采用现有光罩共用方式所遇问题示意图。对于高PPI面板小像素的情况，H<C，也就是原有覆盖标记20的尺寸相对于平移距离H太大，共用移动光罩后，覆盖标记20会发生交叠致使无法量测，进而无法保证RGB光罩位置的准确，进而影响后续制程。

参见图3，其是解决高PPI面板CF所遇问题的现有方法示意图。现有解决不交叠的方法就是将覆盖标记30的色条做小，但是这样又会存在色条剥落(peeling)风险。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种高PPI面板CF光罩共用的方法，避免不利于高PPI面板小像素的光罩共用的情况。

本发明提供了一种高PPI面板CF光罩共用的方法，其中，用于与光罩配合对位的覆盖标记在黑色矩阵上分布于不同水平线上。

其中，将光罩相对对应的覆盖标记在横向平移一倍子像素距离，使用该光罩制备色阻。

其中，将光罩相对对应的覆盖标记在横向平移两倍子像素距离，使用该光罩制备色阻。

其中，将光罩相对对应的覆盖标记在纵向平移一倍像素距离，使用该光罩制备色阻。

其中，将光罩相对对应的覆盖标记在纵向平移两倍像素距离，使用该光罩制备色阻。

其中，将光罩相对对应的覆盖标记在横向平移一倍子像素距离或两倍子像素距离，再纵向平移一倍像素距离或两倍像素距离，使用该光罩制备色阻。