[发明专利]一类新型9，9‑二芳基芴聚合物光电功能材料的制备与光电器件应用

权利要求书

1.一种其结构单元的4位具有共轭取代基团的9，9-二芳基芴类聚合物，其特征在于其结构单元的4位烷氧链的末端为共轭取代基团，该聚芴类发光材料具有如下通式结构：

其中，R为具有4～8个碳原子的烷基链或者烷氧基链；Ar为苯、咔唑、二苯胺等共轭取代基团。

2.根据权利要求1所述的聚芴类光电功能材料，其特征在于R为以下结构中的一种：

3.根据权利要求1所述的聚芴类光电功能材料，其特征在于烷氧链R的末端取代基团Ar为以下结构中的一种：

4.一种如权利要求1所述的结构单元为4位含有共轭取代基团的9，9-二芳基芴类聚合物光电功能材料单体的制备方法，其特征在于该种聚合物的单体是通过拜耳-维立格和格氏反应合成，以4位为己基连接的咔唑结构为例，具体反应路径如下：

步骤1：通过拜耳-维立格重排反应由2，7-二溴-9-芴酮制备内酯，具体反应条件为2，7-二溴芴酮在三氟乙酸和过碳酸钠的条件下室温反应72h制得；

步骤2：通过格式反应制得2，7-二溴二醇，具体为2，7-二溴内酯与4～6倍当量的溴苯的格氏试剂反应，溶剂为甲苯，氮气保护下85℃反应24h；

步骤3：4号位醇基的烷基取代反应，具体为2，7-二溴二醇与1.5倍当量的1-溴-己基咔唑，以丙酮为溶剂，在室温、碱性条件下反应24h制得；

步骤4：由傅-克反应制得主要聚合物单体，具体为上步产物溶于无水二氯甲烷，在三氟化硼-乙醚催化条件下反应2h制得。

5.一种如权利1所述4位具有共轭取代基团的9，9-二芳基芴类聚合物光电功能材料的制备方法，其特征在于该种聚芴类光电功能材料由其单体通过Yamamoto聚合得到，具体反应条件如下：取等量的联吡啶和镍催化剂Ni(COD)₂于充满N₂的两口烧瓶中，然后于75℃的的DMF溶液中活化20min，之后加入用甲苯溶解的单体溶液，在85℃条件下回流3天，然后用0.1ml干燥溴苯封端，最后用THF和水合肼萃灭，后处理过程用THF抽滤去除残留的镍催化剂，然后旋蒸用无水甲醇沉降，最后用无水甲醇抽提3天，之后真空干燥得到粉末状产品。

6.一种如权利1所述的4位具有共轭取代基团的9，9-二芳基芴类聚合物光电功能材料的应用，其特征在于，该类聚合物材料可作为发光层(EML)应用于有机发光二极管器件，其中有机发光二极管的结构为：ITO/PEDOT：PSS/EML/TPBi/LiF/Al。