[发明专利]上电极装置在审
申请号: | 201710236523.X | 申请日: | 2017-04-12 |
公开(公告)号: | CN107546092A | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 周峙丞 | 申请(专利权)人: | 周业投资股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/32 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司11355 | 代理人: | 张雅军,史瞳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种蚀刻设备的组件,特别是涉及一种用于电浆蚀刻的上电极装置。
背景技术
参阅图1及图2,一种现有的上电极装置,适于设置在一个反应槽体100上,并位于一个下电极101的上方,且适用于进行电浆蚀刻。该上电极装置包括一个电极板11,以及数个穿设在该电极板11中的陶瓷管12。该电极板11包括一个界定出数个连通于顶面及底面间的贯孔131的电极本体13。所述贯孔131沿两个彼此垂直的方向,如图1所示地间隔排列成数排及数列。每一陶瓷管12插设在相对应的贯孔131中。所述陶瓷管12能保护该电极本体13界定出所述贯孔131的部位,避免该电极本体13界定出所述贯孔131的部位受到电浆侵蚀而损坏,使所述贯孔131的宽度不会变大,而不会有所谓的扩孔现像。所述陶瓷管12如经久使用而有所损耗,也仅需要更换所述陶瓷管12即可,不用更换该电极本体13,因此能提高维修便利性及降低维护成本。虽然此种上电极装置具有如前所述的诸多优点,但其蚀刻能力却有待进一步地提升。
发明内容
本发明的目的,在于提供一种上电极装置,具有较佳的蚀刻效果。
本发明上电极装置,包含一个电极板,以及数个设置在该电极板的陶瓷管,该电极板包括一个界定出彼此间隔的数个第一贯孔与数个第二贯孔的电极本体,所述陶瓷管呈管状并设置在所述第一贯孔中,该上电极装置还包含数个设置在所述第二贯孔中并分别封闭所述第二贯孔的陶瓷块。
本发明所述的上电极装置,该电极本体具有一个位于中间的中间部,以及一个围绕连接该中间部外围的外围部,该中间部界定出所述第一贯孔,该外围部界定出所述第二贯孔。
本发明所述的上电极装置,每一第一贯孔设置有一个对应的该陶瓷管,每一第二贯孔设置有一个对应的该陶瓷块。
本发明所述的上电极装置,以所述第一贯孔与所述第二贯孔的总数量为100%,所述第二贯孔的数量占40%~90%。
本发明所述的上电极装置,该电极本体具有一个位于中间的中间部,以及一个围绕连接该中间部外围的外围部,该中间部界定出所述第一贯孔,该外围部界定出所述第二贯孔,以所述第一贯孔与所述第二贯孔的总数量为100%,所述第二贯孔的数量占40%~90%,每一第一贯孔设置有一个对应的该陶瓷管,每一第二贯孔设置有一个对应的该陶瓷块。
本发明所述的上电极装置,所述第一贯孔数个为一组地分成数组,数组的所述第一贯孔沿一个第一方向排成数排,每一组的所述第一贯孔沿一个不同于该第一方向的第二方向彼此间隔排列成一排,所述第二贯孔数个为一群地分为两群,两群的所述第二贯孔分别位于所述第一贯孔的两相反侧,每一群的所述第二贯孔数个为一组地分为数组,每一群的数组所述第二贯孔,沿该第一方向排成数排,每一组的所述第二贯孔,沿该第二方向彼此间隔排列成一排。
本发明所述的上电极装置,该第一方向与该第二方向垂直。
本发明所述的上电极装置,所述第一贯孔与所述第二贯孔彼此垂直交错间隔排列。
本发明所述的上电极装置,所述第一贯孔数个为一组地间隔排列,所述第二贯孔数个为一组地间隔排列,数组的所述第一贯孔与数组的所述第二贯孔彼此交错设置。
本发明所述的上电极装置,所述第一贯孔是数个为一组地排成一个方阵,每一方阵中的所述第一贯孔彼此垂直间隔排列,所述第二贯孔数个为一组地排成一个方阵,每一方阵中的所述第二贯孔彼此垂直间隔排列。
该上电极装置的功效在于:所述陶瓷块封闭了所述第二贯孔,使得该电极本体能供蚀刻气体流动的孔洞数目变少,在相同的气体流量下,因流经所述第一贯孔的蚀刻气体的流速加快,冲击待蚀刻物的力道加强,而具有较佳的蚀刻效果。
附图说明
本发明其他的特征及功效,将于参照图式的实施方式中清楚地呈现,其中:
图1是一个现有的上电极装置的一个部分分解的立体分解图,图中分解示意数个陶瓷管的其中一个;
图2是该现有的上电极装置安装于一个反应槽体且部分组件剖切的一个局部剖视图;
图3是本发明上电极装置的一个第一实施例的一个部分分解的立体分解图,图中分解示意数个陶瓷管的其中一个及数个陶瓷块的其中一个;
图4是该第一实施例安装于一个反应槽体且部分组件剖切的一个局部剖视图;
图5是本发明上电极装置的一个第二实施例的一个部分分解的立体分解图,图中分解示意所述陶瓷管的其中一个及所述陶瓷块的其中一个;
图6是该第二实施例安装于一个反应槽体且部分组件剖切的一个局部剖视图;
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