[发明专利]一种快门装置有效

专利信息
申请号: 201710210543.X 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN108663871B 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 王彦飞;章富平;贾翔 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03B9/14 分类号: G03B9/14;G03B9/08
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 快门 装置
【说明书】:

发明提供了一种快门装置,包括遮光运动模块和运动控制模块,所述运动控制模块控制所述遮光运动模块运动,所述遮光运动模块包括遮光单元、驱动单元和信号测量单元,所述遮光单元包括两个叶片,所述运动控制模块发出一控制信号,所述驱动单元接收所述控制信号并驱动所述两个叶片运行,所述信号测量单元实时测量并反馈所述两个叶片的运行状态给运动控制模块,所述运动控制模块依据反馈的运行状态更新所述控制信号,解决了现有的快门曝光剂量精度不高以及漏光的问题,满足各种曝光剂量的需求,控制曝光剂量的精度。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域,特别涉及一种快门装置。

背景技术

光刻机曝光系统中,曝光剂量精度是一极其重要指标,一般曝光剂量精度指标要求低于1%,曝光剂量精度的控制是通过快门叶片的打开-关闭动作控制。对于高功率汞灯光源而言,快门叶片打开-关闭的完成时间为几十毫秒甚至十几毫秒。可见,快门的工作工况为高速启停、高温的较恶劣工况,对快门性能及可靠性有着非常高的要求。

目前光刻机曝光系统主要应用的快门为旋转电机驱动的旋转式快门和音圈电机驱动的往复摆动式快门。由于旋转式快门速度不高,无法满足小剂量曝光,而往复摆动式快门目前采用的是开环控制结构,其可靠性较差,且结构对温度变化敏感,剂量精度控制不稳定,漏光现象频发。

本发明介绍了一种快门装置,可有效满足各种曝光剂量的要求,解决曝光剂量精度不高及漏光等问题

发明内容

本发明的目的在于提供一种快门装置,以解决现有的快门曝光剂量精度不高以及漏光的问题,满足各种曝光剂量的需求,控制曝光剂量的精度。

一种快门装置,包括遮光运动模块和运动控制模块,所述运动控制模块控制所述遮光运动模块运动,所述遮光运动模块包括遮光单元、驱动单元和信号测量单元,所述遮光单元包括两个叶片,所述运动控制模块发出一控制信号,所述驱动单元接收所述控制信号并驱动所述两个叶片运行,所述信号测量单元实时测量并反馈所述两个叶片的运行状态给运动控制模块,所述运动控制模块依据反馈的运行状态更新所述控制信号。

可选的,所述驱动单元和信号测量单元均为两个,与所述两个叶片一一对应设置。

可选的,所述驱动单元包括电机,所述电机驱动所述两个叶片运动实现所述快门装置的开合。

可选的,所述遮光运动模块还包括固定轴单元,所述固定轴单元包括轴承座、旋转轴和轴承,所述旋转轴贯穿所述轴承设置在轴承座中,所述两个叶片中连接所述旋转轴设置在所述轴承座一侧,所述驱动单元连接所述旋转轴设置在所述轴承座另一侧。

可选的,所述遮光单元还包括叶片转接板,所述两个叶片通过所述叶片转接板与所述旋转轴连接。

可选的,所述叶片转接板与所述旋转轴之间设有隔热板。

可选的,所述轴承为陶瓷或金属材质,所述轴承座为金属材质。

可选的,所述两个叶片在垂直于叶片表面的方向上间隔一定距离布置使两个叶片不会发生碰撞。

可选的,所述一定距离为0.5mm~5mm。

可选的,保证所述两个叶片闭合时不漏光的条件是叶片旋转角度误差α满足如下公式:

其中,M为叶片重合量,Mmin为叶片最小重合量,R为叶片旋转半径。

可选的,所述信号测量单元包括位置传感器,所述位置传感器用于实时检测所述两个叶片的位置。

可选的,所述位置传感器包括旋转编码器或圆形光栅尺,所述旋转编码器或圆形光栅尺固定在旋转轴的末端,实时检测所述两个叶片的旋转角度。

可选的,其特征在于,所述位置传感器包括直线光栅尺。

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