[发明专利]一种适用于光学测量系统的外标校用靶标及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201710207272.2 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN106839988A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 何文杰;邓友银;王晨晨 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)34124 代理人: 张景云
地址: 230000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 光学 测量 系统 外标校用 靶标 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种适用于光学测量系统的外标校用靶标,其特征在于:包括靶标基体(1);在所述标靶基体(1)上设置有锥窝(2)、标示图(3)、标示图定位孔(5);所述标示图(3)设置在靶标基体(1)正中,以标识图定位孔(5)为中心定位点;激光跟踪仪靶球(4)放置在锥窝(2)内;在所述基体(1)的各边沿还均布有安装孔(6),用于靶标的安装固定。

2.根据权利要求1所述的一种适用于光学测量系统的外标校用靶标,其特征在于:在所述基体(1)上设置有4个锥窝(2),并相对标示图定位孔对称设置在基体(1)的四周。

3.根据权利要求1所述的一种适用于光学测量系统的外标校用靶标,其特征在于:所述锥窝(2)的开口为90°。

4.一种适用于光学测量系统的外标校用靶标的使用方法,其特征在于:所述靶标为权利要求1至3任一所述的靶标;使用方法包括以下步骤:

1)通过安装孔精确定位靶标的位置;

2)通过测量放置在90°锥窝(2)中的激光跟踪仪靶球(4)来推算出靶标中心点相对坐标值;

3)将得到的靶标坐标值输入至全视角高精度三维测量仪系统中,通过空间交会测量原理进行三维坐标解算,得到一系列靶标测量点相对测量仪的坐标值,从而完成大面积装备上控制点的测量。

5.根据权利要求4所述的一种适用于光学测量系统的外标校用靶标的使用方法,其特征在于:所述步骤2)具体采用精密仪器精确测量出靶标上各锥窝(2)中心点的坐标值(x1,y1,z1)、(x2,y2,z2)、(x3,y3,z3)和(x4,y4,z4),再根据下式推算获得靶标上标示图(3)中心点的空间坐标值(x,y,z):

x=(x1+x2+x3+x4)/4;

y=(y1+y2+y3+y4)/4;

z=(z1+z2+z3+z4)/4;

然后将的到的标示图(3)中心点的空间坐标值(x,y,z)输入至全视角高精度三维测量仪系统中,通过空间交会测量原理进行三维坐标解算,得到一系列靶标测量点相对测量仪的坐标值,从而完成大面积装备上控制点的测量。

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