[发明专利]一种定位基站和定位系统在审
申请号: | 201710205091.6 | 申请日: | 2017-03-31 |
公开(公告)号: | CN107144848A | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 张超 | 申请(专利权)人: | 成都理想境界科技有限公司 |
主分类号: | G01S17/06 | 分类号: | G01S17/06;G01S7/481 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川省成都市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 定位 基站 系统 | ||
1.一种定位基站,其特征在于,包括:
主体;
旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;
镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面朝向所述旋转轴的侧面、且能够反射所述两个激光扫描器出射的激光扫描线。
2.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,所述旋转轴上的两个激光扫描器分周期进行扫描。
3.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,所述旋转轴上的两个激光扫描器分别出射不同频率的激光扫描线。
4.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,经过所述旋转轴上的两个激光扫描器且垂直于所述旋转轴的轴心的两条直线之间的夹角大于等于180°-2α,且小于等于180°,其中α为所述两个激光扫描面被所述镜面机构反射且不被所述旋转轴遮挡时的最小出射角。
5.如权利要求4所述的定位基站,其特征在于,经过所述旋转轴上的两个激光扫描器且垂直于所述旋转轴的轴心的两条直线之间的夹角为180°。
6.一种定位系统,其特征在于,包括:
如权利要求1-5中任一权项所述的定位基站;
定位终端,所述定位终端上设置有光敏传感器;
数据处理设备,用于根据所述定位终端被所述定位基站出射的激光扫描面触发而生成的电信号,确定定位终端相对于定位基站的位置。
7.如权利要求6所述的定位系统,其特征在于,所述定位终端上设置有两个光敏传感器,两个光敏传感器上分别设置有频率不同的窄带滤波片。
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