[发明专利]一种等离子体产生腔室和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体产生腔室，包括介质筒和绕制在所述介质筒外壁的线圈，所述线圈用于将射频功率耦合至所述介质筒内，以激发所述介质筒内的气体产生等离子体，其特征在于，还包括磁性元件，所述磁性元件围设在所述线圈的外侧，所述磁性元件能在所述介质筒内产生磁场，所述磁场的方向与所述介质筒的轴线夹角大于0°且小于180°，所述磁性元件包括多个，多个所述磁性元件彼此相互间隔地围设在所述线圈的外侧，且任意相邻的两个所述磁性元件的极性相反，以使所述磁场的方向在所述介质筒圆周截面上呈多个方向。

2.根据权利要求1所述的等离子体产生腔室，其特征在于，多个所述磁性元件围绕所述线圈一圈或多圈，且多圈所述磁性元件沿所述线圈的轴向依次等间隔排布。

3.根据权利要求2所述的等离子体产生腔室，其特征在于，每圈所述磁性元件中，任意相邻的两个所述磁性元件之间的间距相等。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的等离子体产生腔室，其特征在于，所述磁性元件的形状为条状或块状。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的等离子体产生腔室，其特征在于，所述介质筒包括多个，每个所述介质筒内用于相应通入不同气体；每个所述介质筒外壁均绕制有所述线圈，且每个所述介质筒上的所述线圈的外侧均围设有所述磁性元件。

6.根据权利要求5所述的等离子体产生腔室，其特征在于，多个所述介质筒的出口连通。

7.根据权利要求1所述的等离子体产生腔室，其特征在于，所述介质筒的材质为石英或陶瓷。

8.一种等离子体处理装置，包括等离子体反应腔室，其特征在于，还包括权利要求1-7任意一项所述的等离子体产生腔室；所述等离子体产生腔室设置于所述等离子体反应腔室上方，且所述等离子体产生腔室与所述等离子体反应腔室之间通过匀流板连通，所述等离子体产生腔室内产生的等离子体能通过所述匀流板进入所述等离子体反应腔室，以对置于所述等离子体反应腔室内的晶圆表面进行处理。