[发明专利]曝光设备及曝光系统有效

专利信息
申请号: 201710200961.0 申请日: 2017-03-29
公开(公告)号: CN106909031B 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 辛宪栋;曹旭东;秦培培;林斗亮;罗鹏;寇建龙;邢宏伟;沙俊 申请(专利权)人: 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/185
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 柴亮,张天舒
地址: 230012 安徽省合肥市新*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 曝光 设备 系统
【说明书】:

技术领域

发明属于显示技术领域,具体涉及一种曝光设备及曝光系统。

背景技术

现有技术当中,通常采用接近式曝光机来生产彩色滤光片。

传统接近式曝光机的曝光区域尺寸较为单一,通常只有一种或者两种曝光区域。在生产彩色滤光片时,曝光区域(即曝光光线能照到的区域)应当与待曝光区域(即待曝光基板需要同时进行曝光的区域)尺寸相同。而不同产品的待曝光区域的尺寸各有不同,当曝光区域大于待曝光区域时,需要将曝光区域超出待曝光区域的部分遮挡进行曝光。或者,现有技术中,还可改变待曝光基板的放置方式(例如待曝光区域长度等于曝光区域宽度,通过旋转待曝光基板用曝光区域宽度对应待曝光区域长度进行曝光),以在满足曝光需求的同时尽量减少曝光照度的浪费。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题:对曝光区域遮挡进行曝光造成曝光照度利用不够充分;为了应对不同的待曝光基板放置方式,需要增加相应的曝光辅助设备,导致曝光系统设备重复配置,成本较高。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提供一种能够灵活调整曝光区域尺寸以应对不同待曝光基板的曝光设备。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种曝光设备,包括:

能发生形变的凹面反射镜,用于反射曝光光线,并保证所述曝光光线最终射向曝光区域;

调整模组,用于改变所述凹面反射镜的曲率。

优选的,所述曝光设备还包括:反射模组,用于将来自所述凹面反射镜的曝光光线反射向曝光区域。

优选的,所述调整模组设置于所述凹面反射镜的凸面侧。

优选的,所述调整模组包括:第一支撑连杆、第二支撑连杆和角度调整模块;其中,

所述第一支撑连杆的第一端部和第二支撑连杆的第一端部分别与所述凹面反射镜的两个相对边连接,所述第一支撑连杆的第二端部和第二支撑连杆的第二端部转动连接;

所述角度调整模块用于调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度。

进一步优选的,所述角度调整模块包括连接部和调整单元;其中,

所述连接部连接在所述第一支撑连杆和第二支撑连杆之间;

所述调整单元用于使所述连接部发生运动以调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度。

进一步优选的,所述连接部包括第一连接杆和第二连接杆;其中,

所述第一连接杆的第一端部和与第一支撑连杆相连,所述第二连接杆的第一端部和第二支撑连杆连接;

所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部均与所述调整单元连接;

所述调整单元用于带动所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

进一步优选的,所述调整单元包括螺母和螺纹杆;其中,

所述螺母与所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部分别固定连接,并套设在所述螺纹杆上;

所述螺纹杆转动时能带动所述螺母在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

进一步优选的,所述调整单元还包括:

固定设置的驱动器,用于驱动所述螺纹杆转动。

解决本发明技术问题所采用的另一种技术方案是一种曝光系统,包括:上述任意一项所述的曝光设备。

优选的,所述曝光系统还包括:用于放置待曝光基板的基台;所述基台上用于放置待曝光基板的区域的长度与宽度尺寸不同。

本发明的曝光设备包括能发生形变的凹面反射镜和调整模组,其通过调整模组调整凹面反射镜的曲率可以使曝光光线的反射角度发生变化,从而使最终形成的曝光区域的尺寸改变以对应待曝光基板的曝光需求,同时使曝光照度得到有效利用。因此,利用本实施例提供的曝光设备,可以实现不同曝光需求的待曝光基板以同一放置方式进行曝光,无需重复设置测量设备等,从而节省了曝光成本。

附图说明

图1为本发明的实施例中待曝光区域尺寸不同的两种待曝光基板的示意图;

图2为本发明的实施例中对一种待曝光基板进行曝光的示意图;

图3为本发明的实施例中对另一种待曝光基板进行曝光的示意图;

其中附图标记为:01、凹面反射镜;11、第一支撑连杆;12、第二支撑连杆;21、第一连接杆;22、第二连接杆;31、螺纹杆;32、螺母;04、驱动器;05、待曝光基板;06、反射模组;07、基台;08、待曝光区域。

具体实施方式

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