[发明专利]曝光设备及曝光系统

权利要求书

1.一种曝光设备，其特征在于，包括：

能发生形变的凹面反射镜，用于反射曝光光线，并保证所述曝光光线最终射向曝光区域；

调整模组，用于改变所述凹面反射镜的曲率；

所述调整模组包括：第一支撑连杆、第二支撑连杆和角度调整模块；其中，

所述第一支撑连杆的第一端部和第二支撑连杆的第一端部分别与所述凹面反射镜的两个相对边连接，所述第一支撑连杆的第二端部和第二支撑连杆的第二端部转动连接；

所述角度调整模块用于调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度；

所述角度调整模块包括连接部和调整单元；其中，

所述连接部连接在所述第一支撑连杆和第二支撑连杆之间；

所述调整单元用于使所述连接部发生运动以调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度；

所述连接部包括第一连接杆和第二连接杆；其中，

所述第一连接杆的第一端部和与第一支撑连杆相连，所述第二连接杆的第一端部和第二支撑连杆连接；

所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部均与所述调整单元连接；

所述调整单元用于带动所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：

反射模组，用于将来自所述凹面反射镜的曝光光线反射向曝光区域。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，

所述调整模组设置于所述凹面反射镜的凸面侧。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述调整单元包括螺母和螺纹杆；其中，

所述螺母与所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部分别固定连接，并套设在所述螺纹杆上；

所述螺纹杆转动时能带动所述螺母在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述调整单元还包括：

固定设置的驱动器，用于驱动所述螺纹杆转动。

6.一种曝光系统，其特征在于，包括：

权利要求1至5中任意一项所述的曝光设备。

7.根据权利要求6所述的曝光系统，其特征在于，还包括：

用于放置待曝光基板的基台；所述基台上用于放置待曝光基板的区域的长度与宽度尺寸不同。