[发明专利]半导体激光器泵浦的腔内泵浦连续波光参量振荡器有效
申请号: | 201710199715.8 | 申请日: | 2017-03-30 |
公开(公告)号: | CN106921110B | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 张兆伟;丁振文 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01S5/04 | 分类号: | H01S5/04;H01S5/06 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 廖盈春;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体激光器 腔内泵浦 连续 波光 参量 振荡器 | ||
1.一种半导体激光器泵浦的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,包括:单横模半导体激光器(1)、聚焦透镜(2)、输入耦合镜(3)、激光增益晶体(4)、激光凹面镜(5)、双色镜(6)、第一凹面镜(7)、非线性晶体(8)、第二凹面镜(9)、OPO信号光输出耦合镜(10)和OPO泵浦光高反镜(11);
所述单横模半导体激光器(1)输出的激光沿着光路依次经过所述聚焦透镜(2)和所述输入耦合镜(3)后聚焦于所述激光增益晶体(4);所述激光增益晶体(4)产生的OPO泵浦光中一个方向的第一光线经所述输入耦合镜(3)中心反射后到达所述OPO泵浦光高反镜(11)中心并使得该第一光线原路返回;所述OPO泵浦光中另一方向的第二光线经过所述激光凹面镜(5)中心反射后垂直通过所述双色镜(6),再经过所述第一凹面镜(7)中心反射后垂直通过所述非线性晶体(8)后到达所述第二凹面镜(9)中心并使得该第二光线原路返回;由所述非线性晶体(8)产生的OPO信号光中一个方向的第三光线经所述第一凹面镜(7)反射到所述双色镜(6),再经过所述双色镜(6)反射后垂直到达所述OPO信号光输出耦合镜(10)中心并使得该第三光线原路返回;OPO信号光中另一方向的第四光线到达所述第二凹面镜(9)中心并使得该第四光线原路返回。
2.如权利要求1所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述激光增益晶体(4)产生的OPO泵浦光在所述输入耦合镜(3)和所述激光凹面镜(5)的作用下聚焦于所述激光增益晶体(4);
在所述非线性晶体(8)中产生的OPO信号光和OPO泵浦光在所述第一凹面镜(7)和所述第二凹面镜(9)的作用下聚焦于非线性晶体(8)。
3.如权利要求1所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述激光增益晶体(4)为Yb:KYW或Yb:KGW。
4.如权利要求1所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述输入耦合镜(3)镀单横膜半导体激光器激光增透和OPO泵浦光高反膜;所述激光凹面镜(5)镀OPO泵浦光高反膜;所述双色镜(6)镀OPO泵浦光增透和信号光高反膜;所述第一凹面镜(7)和所述第二凹面镜(9)镀OPO泵浦光和信号光高反且闲频光增透膜;所述OPO信号光输出耦合镜(10)镀OPO信号光部分反射膜;所述OPO泵浦光高反镜(11)镀OPO泵浦光高反膜;所述非线性晶体(8)镀OPO泵浦、信号和闲频光增透膜;所述激光增益晶体(4)镀单横模半导体激光器输出激光和OPO泵浦光增透膜;
其中,高反膜是指功率反射率大于99%的膜,增透膜是指功率透射率大于97%的膜,部分反射膜是指反射率小于15%的膜。
5.如权利要求1-4任一项所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述单横模半导体激光器(1)为中心波长为981纳米的单横模半导体激光器,用于匹配所述激光增益晶体(4)的峰值吸收波长。
6.如权利要求1-4任一项所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述激光增益晶体通过采用布儒斯特角切割或镀增透膜的方式实现对激光泵浦波长和激光辐射波长的透过率。
7.如权利要求1-4任一项所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述聚焦透镜(2)用于实现对单横模半导体激光器激光的聚焦,以及实现与激光谐振腔空间模式在所述激光增益晶体中的匹配。
8.如权利要求1-4任一项所述的腔内泵浦连续波光参量振荡器,其特征在于,所述非线性晶体(8)为周期极化的铌酸锂晶体或磷酸钛氧钾晶体。
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