[发明专利]一种玻璃微流道的制备系统

权利要求书

1.一种玻璃微流道的制备系统，包括第一移动平台和切割头透镜组，所述第一移动平台，用于依据计算机发出的控制指令在x/y平面上移动；其特征在于，还包括红外激光器以及固定在第一移动平台上的基板，其中：

红外激光器，用于发射红外激光；

切割头透镜组，用于接收所述红外激光并使所述红外激光聚焦在所述基板的上表面上，以便对放置在所述基板的上表面的玻璃基片进行微流道背刻得到玻璃微流道基片；其中：

所述基板为石墨基板。

2.根据权利要求1所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述系统还包括激光清洗装置，用于接收所述红外激光并利用所述红外激光对所述玻璃微流道基片进行激光清洗，以祛除微流道中的残渣。

3.根据权利要求2所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述系统还包括光路切换器件，用于改变所述红外激光的光路方向，使所述红外激光射入至所述激光清洗装置的接收端。

4.根据权利要求3所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述激光清洗装置包括：

固定在第二移动平台上的激光清洗夹具，用于放置所述玻璃微流道基片；

x/y扫描振镜，用于接收并发送所述红外激光，并确定所述红外激光的扫描范围；

一端与所述x/y扫描振镜的输出端连接的聚焦镜，用于对所述红外激光的焦点进行调节，使所述焦点聚焦在所述玻璃微流道基片的下表面上。

5.根据权利要求4所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述系统还包括激光光束整形装置，用于对所述红外激光进行整形处理，并将整形处理后的红外激光发送至所述x/y扫描振镜。

6.根据权利要求1所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述石墨基板为表面进行抛光处理后的石墨基板。

7.根据权利要求1所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述切割头透镜组的侧壁上设有横穿所述侧壁的进气口。

8.根据权利要求7所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述红外激光的波长范围为700～1400nm，所述红外激光的频率范围为10～100KHz。

9.根据权利要求7所述的玻璃微流道的制备系统，其特征在于，所述x/y扫描振镜的扫描速度为50～2000mm/s。