[发明专利]一种真空快速去除溶剂的装置及方法

说明书

本发明的真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，壳体设有一浅孔，浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，密封圈支撑于台阶上，密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，真空挡板阀通过与通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的的侧壁上开设有排气孔，细管道通过与排气孔相连实现与真空腔室的连通。装置通过真空挡板阀和带有控制阀的细管道和真空腔室组成，结构简单，操作方便，实用性高。本发明的方法可以在20秒内，快速将腔室内压强抽至50pa一下，利用真空中液体沸腾的原理将溶剂快速蒸发。

技术领域

本发明属于环境科学领域，尤其涉及一种真空快速去除溶剂的装置及方法。

背景技术

目前在针对去除有机或是无机化学合成产物中的溶剂，多采用热蒸发、或是低沸点溶剂交换的方式，但因某些有机或是无机化学合成产物中，所生成的产物结构或是性质不稳定，易受热分解、氧化、溶剂极性破坏等其他不利因素的影响，不能及时有效地脱去产物中的低沸点或强极性的溶剂，从而导致实验的失败。实际情况中实验室中固体薄膜钙钛矿太阳能电池中低沸点溶剂无法做到完全去除，钙钛矿层成矿的致密精度和均匀程度就无法达到设定的要求及标准。而真空技术可以在保证物质在不被破坏的情况下，确保产物的纯净和性质稳定。

发明内容

本发明的主要目的是为了解决现有技术的不足，利用高真空方式，在极短时间内将产物周围压强降至极小，利用在低压状态下，物质沸点降低的原理，在不破坏物质结构和性质的前提下，将产物中残留的溶剂去除，提供了一种真空快速去除溶剂的装置及方法，上述目的通过下述的技术方案来实现：

所述真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，所述壳体设有一浅孔，所述浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，所述密封圈支撑于所述台阶上，所述密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，所述真空挡板阀通过与所述通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的的侧壁上开设有排气孔，所述细管道通过与所述排气孔相连实现与真空腔室的连通。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述密封盖由钢结构的包边和高硼硅视镜玻璃体组成，所述包边包绕于所述高硼硅视镜玻璃体。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述高硼硅视镜玻璃体相对于密封圈的一侧设有弧形的凹陷曲面，形成凹坑。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，凹坑的外圈的长度与真空腔室的宽度相等。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，支撑脚呈直角状，总共为四个。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述真空挡板阀通过不锈钢真空管道可拆卸地与蒸镀设备的真空机械泵连接。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述不锈钢真空管道上设置有三通阀。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述三通阀通过真空卡箍固定于不锈钢真空管道。

所述真空快速去除溶剂的装置的进一步设计在于，所述真空腔室内设置有电池。

如上述的真空快速去除溶剂的装置的真空快速去除溶剂方法，包括如下步骤：

1）将真空挡板阀关闭，将细管道关闭，将蒸镀设备与真空挡板阀间的压强预先抽至20pa以下；

2）将样品片放于真空腔室中，并盖上密封盖；

3）快速开启真空挡板阀，等待8-12s后，打开细管道放气以平衡气压后取出样品片。

本发明的有益效果：