[发明专利]显示面板和显示面板的制程在审
申请号: | 201710185944.4 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN106842686A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 简重光 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)44240 | 代理人: | 邢涛 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体的说,涉及一种显示面板和显示面板的制程。
背景技术
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括液晶面板及背光模组(Backlight Module)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线折射出来产生画面。
其中,薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能,目前已经逐渐占据了显示领域的主导地位。同样,薄膜晶体管液晶显示器包含液晶面板和背光模组,液晶面板包括彩膜基板(Color Fi1ter Substrate,CF Substrate,也称彩色滤光片基板)和薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Substrate,TFT Substrate),上述基板的相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(Liquid Crystal,LC)。液晶面板是通过电场对液晶分子取向的控制,改变光的偏振状态,并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡,实现显示的目的。
现有液晶面板的制程过程中,如在彩膜基板的制程中,需要通过多次光阻涂布、多次曝光、多次显影完成彩色光阻层(例如:R/G/B光阻)、遮光层[例如:BM(black matrix)层,也称黑矩阵]及间隔层[例如:PS(photo spacer)光阻)]等形成彩膜基板成品。其中,在彩色光阻层的制程工艺中通常需要三次光阻涂布、三次曝光、三次显影,其制程过程复杂。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种显示面板的制程,其能够简化显示面板制程的工艺过程,以节省制程工艺,提高效率。
本发明的另一个目的在于提供一种显示面板,其能够简化显示面板制程的工艺过程,以节省制程工艺,提高效率。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
为解决上述问题,根据本发明的一个方面,本发明公开了一种显示面板的制程,所述显示面板包括基板,所述制程包括以下步骤:
在制作光阻体的胶体内掺杂至少三种类型的染料分子;
将所述胶体涂布在所述基板上形成所述光阻体;
通过至少三种不同的波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在不同波长光线的照射下形成至少三种不同颜色的彩色光阻,其中,所述彩色光阻包括红色光阻、绿色光阻和蓝色光阻。
在本发明优选实施例的显示面板的制程中,所述制程在所述通过至少三种不同的波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在不同波长光线的照射下形成至少三种不同颜色的彩色光阻的步骤之后,还包括:
同时去除未形成所述彩色光阻的光阻体。这是本发明显示面板制程的更优选择,同时去除未形成彩色光阻的光阻体,也就是通过一次显影即可形成彩色光阻,其相比现有技术中需要三次显影,本发明进一步的节省了制程工艺,进一步提高效率。
在本发明优选实施例的显示面板的制程中,所述通过至少三种不同的波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在不同波长光线的照射下形成至少三种不同颜色的彩色光阻的步骤包括:
通过第一波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在第一波长光线的照射下形成红色光阻;
通过第二波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在第二波长光线的照射下形成绿色光阻;
通过第三波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在第三波长光线的照射下形成蓝色光阻。这是本发明通过三种不同波长光线配合三种不同的光罩对分别对光阻体进行照射,以形成三种不同颜色彩色光阻的具体过程。
在本发明优选实施例的显示面板的制程中,所述通过第一波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在第一波长光线的照射下形成红色光阻的步骤包括:
第一波长光线通过第一光罩照射所述光阻体的红色区域,以控制所述染料分子在第一波长光线的照射下形成红色光阻。
在本发明优选实施例的显示面板的制程中,所述通过第二波长光线照射所述光阻体,以控制所述染料分子在第二波长光线的照射下形成绿色光阻的步骤包括:
第二波长光线通过第二光罩照射所述光阻体的绿色区域,以控制所述染料分子在第二波长光线的照射下形成绿色光阻。
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