[发明专利]高阻膜的镀膜装置

权利要求书

1.一种高阻膜的镀膜装置，其特征在于，包括进片室、第一缓冲室、第一过渡室、溅射室、第二过渡室、第二缓冲室、出片室、抽真空组件、冷阱组件、阴极组件和加热组件，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室依次连接，所述抽真空组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室抽真空，所述冷阱组件包括冷阱件、压缩机和制冷剂，所述冷阱件安装在所述第一缓冲室内，所述压缩机的入口与所述冷阱件的出口相连通，所述压缩机的出口与所述冷阱件的入口相连通，以使所述制冷剂能够在所述冷阱件和所述压缩机之间循环流动，所述阴极组件安装在所述溅射室内，所述加热组件能够对所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室进行加热，所述阴极组件包括阴极及多个用于安装靶材的导电载板，所述阴极固定安装在所述溅射室内，多个所述导电载板均固定在所述阴极的同一侧上，并沿竖直方向依次排列，且相邻两个所述导电载板间隔一段距离，所述加热组件为多个，所述进片室、所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室、所述第二缓冲室和所述出片室内均安装有所述加热组件，每个所述加热组件包括热反射板和多个平行且间隔设置的加热管，所述热反射板竖直设置，多个所述加热管固定在所述热反射板的同一侧上，以使所述热反射板远离所述加热管的一侧能够朝向待镀件，在所述第一缓冲室内，所述热反射板与所述冷阱件相对固定在所述第一缓冲室的侧壁上，以使所述待镀件能够在所述热反射板和所述冷阱件之间滑动。

2.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述制冷剂为液氮。

3.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述冷阱件为一金属管以一端为固定点开始向外逐圈旋绕而形成的螺旋结构，所述冷阱件的两端分别为所述冷阱件的出口和入口。

4.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述抽真空组件包括多个机械泵、多个罗茨泵和多个分子泵，多个所述机械泵分别与所述进片室、所述溅射室和所述出片室相连通，多个所述罗茨泵分别与所述进片室、所述溅射室和所述出片室相连通，多个所述分子泵分别与所述第一缓冲室、所述第一过渡室、所述溅射室、所述第二过渡室和所述第二缓冲室相连通。

5.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，还包括布气组件，所述布气组件包括控制器、布气管和流量计，所述控制器能够控制反应气体的流量，所述布气管的一端与所述控制器连接，另一端收容于所述溅射室内，并穿过所述阴极而与多个所述导电载板位于所述阴极的同一侧，所述流量计安装在所述布气管的中部，并与所述控制器电信号连接。

6.根据权利要求5所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述控制器为具有多通道的控制器，所述布气管为多个，每个所述布气管的一端与所述控制器的一个通道相连通，另一端穿过所述阴极，且多个所述布气管远离所述控制器的一端间隔设置，所述流量计的数量与所述布气管的数量一致，一个所述流量计对应一个所述布气管，多个所述流量计均与所述控制器电信号连接。

7.根据权利要求1所述的高阻膜的镀膜装置，其特征在于，所述溅射室包括两个相连通的溅射部，其中一个所述溅射部与所述第一过渡室相连通，另一个与所述第二过渡室相连通，所述阴极组件为多个，多个所述阴极组件分别安装在两个所述溅射部内。