[发明专利]压印模具及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710177787.2 申请日: 2017-03-23
公开(公告)号: CN108298799A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 黄世明;杨欣学;杨为翔 申请(专利权)人: 馗鼎奈米科技股份有限公司
主分类号: C03B11/06 分类号: C03B11/06
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾台南市永康区亚*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 石墨基 中间层 压印模具 碳膜 热膨胀系数 表面缺陷 平整度 压印层 易加工 压印 沉积 制造 剥离 印制 覆盖 预防
【权利要求书】:

1.一种压印模具,其特征在于,包含:

一石墨基底,其中该石墨基底的热膨胀系数大于6x10-6(1/℃);

一中间层,沉积在该石墨基底的一表面上;以及

一碳膜,覆盖在该中间层上。

2.根据权利要求1所述的压印模具,其特征在于,该中间层的厚度为1μm至500μm。

3.根据权利要求1所述的压印模具,其特征在于,该中间层的材料为钛、硅、铝、或其碳化物、或其氮化物。

4.根据权利要求1所述的压印模具,其特征在于,该碳膜的厚度为1nm至1μm。

5.根据权利要求1所述的压印模具,其特征在于,该碳膜的碳含量等于或大于70at.%,且该碳膜的硬度大于10GPa。

6.根据权利要求1所述的压印模具,其特征在于,该碳膜的材料为钻石或类钻碳。

7.一种压印模具的制造方法,其特征在于,包含:

制备一石墨基底,其中该石墨基底的热膨胀系数大于6x10-6(1/℃);

沉积一中间层在该石墨基底的一表面上;以及

形成一碳膜覆盖在该中间层上。

8.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,该中间层的厚度为1μm至500μm。

9.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,该中间层的材料为钛、硅、铝、或其碳化物、或其氮化物。

10.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,沉积该中间层时包含利用一等离子辅助化学气相沉积制程或一热化学气相沉积制程。

11.根据权利要求10所述的压印模具的制造方法,其特征在于,进行该等离子辅助化学气相沉积制程时包含使用一工作气体,且该工作气体包含四氯化钛、乙氰、氮气、氢气与氩气,且该中间层的材料为碳氮化钛。

12.根据权利要求10所述的压印模具的制造方法,其特征在于,进行该热化学气相沉积制程时包含使用一工作气体,且该工作气体包含四氯化硅、甲烷、氢气与氩气,且该中间层的材料为碳化硅。

13.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,该碳膜的厚度为1nm至1μm。

14.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,该碳膜的碳含量等于或大于70at.%,且该碳膜的硬度大于10GPa。

15.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,该碳膜的材料为钻石或类钻碳。

16.根据权利要求7所述的压印模具的制造方法,其特征在于,形成该碳膜时包含利用一热丝化学气相沉积制程或一等离子辅助化学气相沉积制程。

17.根据权利要求16所述的压印模具的制造方法,其特征在于,进行该热丝化学气相沉积制程时包含使用一工作气体,且该工作气体包含甲烷与氢气,该碳膜的材料为钻石。

18.根据权利要求16所述的压印模具的制造方法,其特征在于,进行该等离子辅助化学气相沉积制程时包含使用一工作气体,且该工作气体包含甲烷与氩气。

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