[发明专利]一种用于大尺寸晶片单面抛光的旋转调节式上轴机构

权利要求书

1.一种用于大尺寸晶片单面抛光的旋转调节式上轴机构，包括气缸、旋转接头、旋转轴、旋转电机、旋转齿轮、连接轴杆和上盘面，其特征在于，所述气缸竖直固定设置，其伸缩端竖直朝下，所述气缸、旋转接头、旋转轴、连接轴杆和上盘面自上而下依次相连；所述旋转接头由转接套、旋转块和盖板构成，所述转接套呈中空圆柱形，其上设有连接杆、密封通道、气管接入口、水管接入口、水管接出口和漏水检测口，所述连接杆竖直设置，位于转接套的上端面上，所述密封通道呈圆柱形，其上端设有呈圆环形的盖板限位槽，密封通道的内壁上自上而下依次设有进气槽、漏水检测槽、进水槽和出水槽；所述进气槽、漏水检测槽、进水槽和出水槽均呈环形环绕，进气槽、漏水检测槽、进水槽和出水槽互相平行；所述旋转块由密封块和连接块构成，所述密封块和连接块为一体式结构，密封块呈中空圆柱形，套于转接套内，并与密封通道间隙密封，密封块上设有进气口、进水口和出水口，且所述进气口、进水口、出水口的位置分别与气管接入口、水管接入口、水管接出口的位置一一对应；所述盖板设置于盖板限位槽内，与密封块的上端面贴合，并通过螺栓与密封块固定连接；所述气缸的伸缩端上设有气缸轴，所述转接套通过连接杆与气缸轴固定连接，进而与气缸相连；所述旋转块通过连接块，用螺栓与旋转轴固定连接；所述旋转轴呈圆柱形，并且所述旋转轴为中空结构，其外壁上设有2个竖直对称设置的滑槽，所述滑槽的截面呈半圆形，所述旋转齿轮上设有半圆形的滑块，所述滑块与滑槽对应配合，旋转齿轮通过滑槽、滑块，与旋转轴滑动连接；所述连接轴杆为中空结构，位于旋转轴的下端，并与旋转轴固定连接，连接轴杆和上盘面通过万向轴承相连；所述旋转电机固定设置于旋转齿轮一侧，并通过主动齿轮与旋转齿轮联动，所述主动齿轮的齿口与旋转齿轮的齿口契合。

2.如权利要求1所述的一种用于大尺寸晶片单面抛光的旋转调节式上轴机构，其特征在于，所述进气口、进气槽、气管接入口互相连通，所述进水口、进水槽、水管接入口互相连通，所述出水口、出水槽、水管接出口互相连通，所述漏水检测口与漏水检测槽互相连通。

3.如权利要求1所述的一种用于大尺寸晶片单面抛光的旋转调节式上轴机构，其特征在于，所述旋转轴、连接轴杆均为中空结构，所述进气口、进水口和出水口通过胶管分别与上盘面上的喷气口和进、出水口相连通。

4.如权利要求1所述的一种用于大尺寸晶片单面抛光的旋转调节式上轴机构，其特征在于，所述盖板呈圆形，其所呈的圆形的直径大于密封通道所呈的圆柱形的直径。