[发明专利]复合带电粒子束装置

说明书

技术领域

本发明涉及朝向利用聚焦离子束形成的样品的剖面照射电子束来得到样品的剖面像的复合带电粒子束装置。

背景技术

例如，作为对半导体器件等样品的内部构造进行解析或者进行立体的观察的手法之一，已知有进行利用了聚焦离子束（Focused Ion Beam；FIB）的剖面形成加工（蚀刻加工）并且通过扫描型电子显微镜（Scanning Electron Microscope；SEM）扫描电子束（Electron Beam；EB）来得到样品的剖面像的方法（例如，专利文献1）。

该剖面加工观察方法是利用了复合带电粒子束装置的被称为切&看（Cut&See）的手法，具有能够进行样品的剖面加工并进行其剖面像的观察这样的、对于其他的方法没有的优点。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008-270073号公报。

发明要解决的课题

可是，在上述那样的用于剖面加工观察方法的复合带电粒子束装置中，存在电子束镜筒由于利用聚焦离子束照射而从样品飞散的溅射粒子而容易污损这样的课题。即，在复合带电粒子束装置中，为了使照射的电子束性能的衰减变少，以与载置样品的样品台接近的方式配置电子束镜筒。因此，存在产生如下等问题的担忧：利用聚焦离子束的照射而从样品飞散的溅射粒子容易附着于电子束镜筒的物镜等，由于所附着的溅射粒子引起充电现象而电子束的轨道弯曲或者焦点或像散发生变化。此外，也存在电极间的绝缘性降低的担忧。

发明内容

本发明是鉴于前述的情况而完成的，其目的在于提供一种同时具备聚焦离子束镜筒和电子束镜筒的复合带电粒子束装置，所述复合带电粒子束装置能够防止电子束镜筒的污损并且高精度地照射电子束。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，本实施方式的若干个方式提供了以下那样的复合带电粒子束装置。

即，本发明的复合带电粒子束装置的特征在于，具备：样品台，载置样品；聚焦离子束镜筒，向所述样品照射聚焦离子束；电子束镜筒，向所述样品照射电子束；样品室，收容所述样品台、所述聚焦离子束镜筒和电子束镜筒；防污板，以能在插入到所述电子束镜筒的出射面与所述样品台之间的插入位置和从所述出射面与所述样品台之间退出后的敞开位置之间移位的方式形成；以及操作单元，使所述防污板在所述插入位置和所述敞开位置之间移位。

根据本实施方式的复合带电粒子束装置，在从聚焦离子束镜筒照射聚焦离子束时，使防污板为插入位置，由此，为电子束镜筒的出射面的前表面侧被防污板覆盖的状态。当朝向样品照射聚焦离子束时，溅射粒子从样品飞散，朝向被配置在样品的附近的电子束镜筒也飞来许多溅射粒子。可是，由于电子束镜筒的出射面的前表面侧被防污板覆盖，所以没有溅射粒子从电子束镜筒的出射面进入到内部而附着于例如物镜等这样的情况。由此，能够可靠地防止电子束镜筒的内部被飞来的溅射粒子污损的情况。

特征在于，所述防污板在所述插入位置处覆盖所述电子束镜筒的出射面的附近。

特征在于，所述操作单元形成在所述样品室的外部。

特征在于，所述防污板由非磁性材料形成。

特征在于，所述防污板由带状的板簧材料构成。

特征在于，所述防污板被对沿着长尺寸方向的两个侧面及其附近进行支承的支承构件沿着长尺寸方向滑动自由地支承，该支承构件配置在与所述电子束镜筒的出射面重叠的位置以外。

特征在于，所述防污板被配置为相对于长尺寸方向为直角的剖面形成弧状，在所述插入位置处，两个侧端与中心部相比向所述电子束镜筒的出射面侧突出。

发明效果

根据本发明，在同时具备聚焦离子束镜筒和电子束镜筒的复合带电粒子束装置中，能够防止电子束镜筒的污损并且高精度地照射电子束。

附图说明

图1是示出实施方式的复合带电粒子束装置的概略结构图。

图2是示出构成镜筒防污装置的防污板和支承构件的主要部分放大立体图。

图3是从背面侧观察支承构件时的主要部分放大立体图。

图4是从电子束镜筒的附近观察防污板和支承构件时的剖面图。

图5是从电子束镜筒的附近观察另一实施方式中的防污板和支承构件时的剖面图。

图6是示出处于插入位置的防污板的状态的主要部分示意图。

图7是示出处于敞开位置的防污板的状态的主要部分示意图。

具体实施方式