[发明专利]一种四元单层超硬薄膜材料及其制备方法有效
申请号: | 201710160391.7 | 申请日: | 2017-03-17 |
公开(公告)号: | CN106917066B | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
发明(设计)人: | 韩克昌;林国强 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/02;C23C14/06 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 温福雪;侯明远 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单层 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种四元单层超硬薄膜材料的制备方法,其特征在于,所述的四元单层超硬薄膜材料由Zr、Al、O和N四种元素构成,即Zr1-x-y-zAlxOyNz,其相对原子含量分数分别为x=0.06-0.10,y=0.10-0.14,z=0.29-0.33;四元单层超硬薄膜材料的相结构以面心立方Zr和N原子为主,O和Al原子为替换原子占据Zr或N原子的部分点阵位置;四元单层超硬薄膜材料的晶粒尺度为10nm-50nm;厚度为0.5μm-15μm;
四元单层超硬薄膜材料的制备步骤如下:
采用电弧离子镀技术沉积制备方法,将工件基体经超声清洗并烘干处理后,放置于电弧离子镀真空腔室的样品台上,由真空系统将真空腔室抽真空至5.0×10-3Pa~5.0×10-4Pa;工件基体温度加热到100℃~450℃,并保持稳定;之后充入氩气至0.8Pa~4Pa,并给样品台施加600V~1500V的负偏压引发辉光等离子体,对工件基体进行氩离子溅射清洗,时间为5min~30min;然后通入反应气体氮气和氧气,氮气分压为0.3Pa~0.6Pa,氧气分压为0.1Pa~0.2Pa,并与氩气互补通过整体气压控制来维持腔室气压稳定为0.6Pa~1.2Pa,之后启动阴极纯锆靶和纯铝靶电弧,调整纯锆靶弧流为60A~120A,调整纯铝靶弧流为30A~120A,调整脉冲偏压为幅值为300V~1000V、频率为5kHz~40kHz和占空比为5%~50%,即开始薄膜沉积过程,时间为30min~300min;再经过充分炉冷后放掉真空取出已镀膜的工件基体。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述的工件基体为高速钢、硬质合金、冷作模具钢和热作模具钢。
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