[发明专利]光学仪器、相位板及像形成方法有效
申请号: | 201710138918.6 | 申请日: | 2017-03-09 |
公开(公告)号: | CN107179601B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 冈田昌也;岩永茂树 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G01N21/64 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 杨永波 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学仪器 相位 形成 方法 | ||
1.一种光学仪器,包括:
对第1波长的光施以第1相位调制并对第2波长的光施以第2相位调制的通用的相位调制掩膜;
使所述第1波长的光和所述第2波长的光入射所述相位调制掩膜的同一入射区域的照射光学系统;以及
聚集经所述第1相位调制后的所述第1波长的光和经所述第2相位调制后的所述第2波长的光并形成与点扩展函数相应的像的聚光光学系统;
其中,所述相位调制掩膜在所述入射区域包括:对所述第1波长的光施以第1相位调制的第1区域、以及对所述第2波长的光施以第2相位调制的第2区域;
所述第1区域和所述第2区域分别由复数个区域构成;
所述第1区域的各区域和所述第2区域的各区域彼此相邻。
2.一种光学仪器,包括:
对第1波长的光和第2波长的光施以相位调制的通用的相位调制掩膜;
使所述第1波长的光和所述第2波长的光入射所述相位调制掩膜的照射光学系统;以及
聚集经所述相位调制掩膜相位调制后的所述第1波长的光和所述第2波长的光并形成与点扩展函数相应的像的聚光光学系统;
其中,所述相位调制掩膜是能够根据输入来设定相位调制图形的相位调制器,
所述相位调制器通过基于所述第1波长的光用的灰度和所述第2波长的光用的灰度之间的灰度的输入而设定的所述相位调制图形,来对所述第1波长的光在其所入射的所述相位调制器区域的第一区域施以第1相位调制和所述第2波长的光在其所入射的所述相位调制器区域的第二区域施以第2相位调制。
3.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述相位调制掩膜是相位板。
4.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述相位调制掩膜是能够根据输入来设定相位调制图形的相位调制器;
所述相位调制图形在所述入射区域包括:用于对所述第1波长的光施以第1相位调制的第1区域、以及用于对所述第2波长的光施以第2相位调制的第2区域。
5.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1区域的各区域和所述第2区域的各区域为方形。
6.根据权利要求5所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1区域的各区域和所述第2区域的各区域从所述入射区域的一端延伸到另一端。
7.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1区域的各区域和所述第2区域的各区域为环状。
8.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1波长的光和所述第2波长的光分别是从荧光物质中产生的第1荧光和第2荧光。
9.根据权利要求8所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1荧光的波段和所述第2荧光的波段分别有一定宽度,所述第1荧光的波段的一部分和所述第2荧光的波段的一部分互相重合。
10.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述第1波长的光是强度峰值在所述第1波长的光,
所述第2波长的光是强度峰值在所述第2波长的光。
11.根据权利要求8所述的光学仪器,其特征在于:
所述照射光学系统具有物镜,
所述相位调制掩膜在拍摄面上分别使所述第1波长的光的光点和所述第2波长的光的光点成像于两点,并与所述物镜与所述第1波长的光的光点和所述第2波长的光的光点的距离相应地调制所述第1荧光和所述第2荧光的相位,以使得在所述拍摄面上形成所述第1波长的光的两个光点像和所述第2波长的光的两个光点像旋转的所述点扩展函数。
12.根据权利要求1所述的光学仪器,其特征在于:
所述聚光光学系统包括拍摄所述第1波长的光的所述像和所述第2波长的光的所述像的拍摄部件。
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