[发明专利]涂膜、涂膜的制造方法以及涂布组合物

权利要求书

1.一种涂膜，其是在膜内部具有空孔、且在膜表面具有凹凸结构的涂膜，其中，

该涂膜的空孔率为20％以上且小于50％，

通过基于下述方法的AFM测定观测到的所述膜表面的2μm的线上的高低差为10nm～100nm的凹凸的个数为1个～12个，

AFM测定方法如下：

利用原子力显微镜在下述观测条件下以2μm×2μm的视野对涂膜表面的任意位置进行观测，对于所得到的表面图像，将2μm长的线轮廓以0.2μm间隔平行取样10处，计数高低差为10nm～100nm的凹凸的个数，进行平均，

观测条件：

观察模式：轻敲模式

悬臂：长度125μm的Si制矩形悬臂，探针前端无污染和磨损

弹性常数：40N/m。

2.如权利要求1所述的涂膜，其中，其对25℃的水的静态接触角小于25°。

3.如权利要求1或2所述的涂膜，其中，其包含金属氧化物颗粒(A)。

4.如权利要求1或2所述的涂膜，其中，其形成于太阳能电池用覆盖玻璃表面。

5.一种涂膜的制造方法，其是权利要求1～4中任一项所述的涂膜的制造方法，该方法包括将包含金属氧化物颗粒(A)、聚合物颗粒(B)和水解性硅化合物(C)的涂布组合物涂布到基材上的工序。

6.如权利要求5所述的涂膜的制造方法，其中，在进行所述涂布的工序后，进一步包括以下工序：在500℃以上的温度对所述涂布组合物进行烧结。

7.一种涂布组合物，其是权利要求1～4中任一项所述的涂膜用的涂布组合物，其中，

该涂布组合物包含金属氧化物颗粒(A)、聚合物颗粒(B)和水解性硅化合物(C)，

所述金属氧化物颗粒(A)的数均粒径为1.0nm～100nm，所述聚合物颗粒(B)的数均粒径为10nm～100nm，金属氧化物颗粒(A)的数均粒径与聚合物颗粒(B)的数均粒径之和为50nm～150nm。

8.如权利要求7所述的涂布组合物，其中，所述金属氧化物颗粒(A)相对于所述聚合物颗粒(B)的质量比(A)/(B)为0.05/1以上1/1以下。

9.如权利要求7或8所述的涂布组合物，其中，所述水解性硅化合物(C)相对于所述聚合物颗粒(B)的质量比(C)/(B)为0.1/1以上1/1以下。

10.如权利要求7或8所述的涂布组合物，其中，所述聚合物颗粒(B)包含在水和乳化剂的存在下将水解性硅化合物(b1)与具有仲酰胺基和/或叔酰胺基的乙烯基单体进行聚合而得到的聚合物颗粒。

11.如权利要求10所述的涂布组合物，其中，包含在所述聚合物颗粒(B)中的水解性硅化合物(b1)是包含4个以上水解性官能团的水解性硅化合物(b3)，所述聚合物颗粒(B)中的该水解性硅化合物(b3)的水解缩合物的质量比为20％以上50％以下。