[发明专利]一种腔室和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种腔室，包括匀流腔，其特征在于，在所述匀流腔内容置有由多个栅板组成的栅型结构，其中，

所述栅型结构与所述匀流腔的顶壁之间具有第一间距d1；

所述栅型结构与所述匀流腔的底壁之间具有第二间距d2；

相邻所述栅板之间具有第三间距d3；以及

所述d1、d2、d3分别与所述匀流腔内压力p的乘积，均小于1.33Pa*m或均大于13.3Pa*m；并且

所述栅板呈环形，各所述栅板的半径不同，且同心套置。

2.如权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述d1、所述d2、所述d3均小于2mm。

3.如权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述栅型结构为圆形。

4.如权利要求1所述的腔室，其特征在于，相邻所述栅板之间的所述第三间距d3均相同。

5.如权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述栅板的高度大于所述d3的七倍。

6.如权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述栅型结构还包括至少一个支撑梁，所述支撑梁沿所述栅板的径向设置，并连接各所述栅板。

7.如权利要求6所述的腔室，其特征在于，所述支撑梁包括连接部，所述连接部设置在所述支撑梁邻近最外侧的所述栅板的自由端，并与所述匀流腔的侧壁或顶壁连接。

8.如权利要求1～7任一项所述的腔室，其特征在于，所述匀流腔的顶壁上设置有进气口；

所述栅型结构还包括用于阻挡并扩散从所述进气口进入所述匀流腔内气体的阻挡件，所述阻挡件与所述进气口对应设置，并与所述支撑梁的邻近最内侧栅板的一端相连，且所述阻挡件的直径大于所述进气口的直径。

9.如权利要求1～7任一项所述的腔室，其特征在于，所述匀流腔的底壁上设置有多个贯穿的进气孔，所述进气孔与所述栅板对应设置。

10.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的腔室。