[发明专利]用于设定手掌忽视区的触控处理方法、装置与系统有效

专利信息
申请号: 201710120818.0 申请日: 2017-03-02
公开(公告)号: CN107153480B 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 叶尚泰 申请(专利权)人: 禾瑞亚科技股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 用于 设定 手掌 忽视 处理 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种触控处理方法,用于设定手掌忽视区,其特征在于包含:

根据触控笔的近接位置,设定该手掌忽视区的顶点;

根据该触控笔投影于触控荧幕的笔轴向量,设定从该顶点延伸出去的忽视区基线向量;

以该顶点为轴,将该忽视区基线向量分别以逆时针夹角与顺时针夹角旋转,所覆盖的区域为该手掌忽视区;以及

在该手掌忽视区内,忽略所侦测到的外部导电物件的近接事件。

2.根据权利要求1所述的触控处理方法,其特征在于:其中该顶点为距离该近接位置的某一点。

3.根据权利要求1所述的触控处理方法,其特征在于:其中该顺时针夹角大于该逆时针夹角。

4.根据权利要求1所述的触控处理方法,其特征在于:其中该忽视区基线向量突出于该触控荧幕的显示区外。

5.一种触控处理装置,用于设定手掌忽视区,其特征在于包含:

感测电路,连接触控荧幕的多条触控电极,用于感测触控笔与外部导电物件;以及

处理器,连接至该感测电路,用于根据该触控笔的近接位置,设定该手掌忽视区的顶点;根据该触控笔投影于触控荧幕的笔轴向量,设定从该顶点延伸出去的忽视区基线向量;以该顶点为轴,将该忽视区基线向量分别以逆时针夹角与顺时针夹角旋转,所覆盖的区域为该手掌忽视区;以及在该手掌忽视区内,忽略所侦测到的外部导电物件的近接事件。

6.根据权利要求5所述的触控处理装置,其特征在于:其中该感测电路用于根据该多条触控电极所接收的该触控笔的多个电极所发出的电信号,侦测该触控笔的该笔轴向量。

7.根据权利要求5所述的触控处理装置,其特征在于:其中该顶点为距离该近接位置的某一点。

8.根据权利要求5所述的触控处理装置,其特征在于:其中该顺时针夹角大于该逆时针夹角。

9.根据权利要求5所述的触控处理装置,其特征在于:其中该忽视区基线向量突出于该触控荧幕的显示区外。

10.一种触控系统,用于设定手掌忽视区,其特征在于包含:

触控笔;

包含多条触控电极的触控荧幕;以及

触控处理装置,更包含:

感测电路,连接该多条触控电极,用于感测该触控笔与外部导电物件;以及

处理器,连接至该感测电路,用于根据该触控笔的近接位置,设定该手掌忽视区的顶点;根据该触控笔投影于触控荧幕的笔轴向量,设定从该顶点延伸出去的忽视区基线向量;以该顶点为轴,将该忽视区基线向量分别以逆时针夹角与顺时针夹角旋转,所覆盖的区域为该手掌忽视区;以及在该手掌忽视区内,忽略所侦测到的外部导电物件的近接事件。

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