[发明专利]具有自适应控制的放射设备有效
申请号: | 201710109317.2 | 申请日: | 2017-02-27 |
公开(公告)号: | CN107278009B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 伊凡·佩莱蒂 | 申请(专利权)人: | 通用医疗梅拉泰股份公司 |
主分类号: | H05G1/34 | 分类号: | H05G1/34;G05B13/04 |
代理公司: | 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张瑞;郑霞 |
地址: | 意大利贝尔*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 自适应 控制 放射 设备 | ||
1.一种放射设备(1),其包括x射线管(10)和适于控制所述x射线管(10)的控制系统(30),其中所述x射线管(10)包括阴极(12)、阳极(14)和灯丝(16),其中所述控制系统(30)具有:
-第一输出端(32),所述第一输出端适于向所述x射线管(10)提供与所述x射线管(10)的阳极电压对应的第一信号(HV),
第二输出端(34),所述第二输出端适于向所述x射线管(10)提供与所述x射线管(10)的灯丝电压对应的第二信号(LV),
第一输入端(36),所述第一输入端适于接收与所述x射线管(10)的阳极电流的测量值(MI(n))对应的第三信号(AI),
第二输入端(38),所述第二输入端适于从接口系统(40)接收与所述x射线管(10)的阳极电流的期望值(DI)有关的用户命令,以用于通过所述放射设备(1)将要执行的曝光;
其中,所述控制系统(30)适于生成所述第一信号(HV)和所述第二信号(LV),作为所述测量值(MI(n))和所述期望值(DI)的函数;
其中,至少关于所述第一信号(HV)而言,所述控制系统(30)实现自适应控制。
2.根据权利要求1所述的放射设备(1),其中,就所述第一信号(HV)和所述第二信号(LV)两者而言,所述控制系统(30)实现自适应控制。
3.根据权利要求1或2所述的放射设备(1),
其中,所述控制系统(30)适于独立于所述第二信号(LV)生成所述第一信号(HV);
其中,所述控制系统(30)适于独立于所述第一信号(HV)生成所述第二信号(LV)。
4.根据权利要求1或2所述的放射设备(1),其中,所述控制系统(30)实现了控制,根据所述控制,与所述第一信号(HV)对应的所述阳极电压和与所述第二信号(LV)对应的所述灯丝电压在所述曝光期间随着时间变化。
5.根据权利要求1或2所述的放射设备(1),其中,所述控制系统(30)实现MRAC类型的自适应控制。
6.根据权利要求5所述的放射设备(1),其中,所述MRAC类型的自适应控制具有至少一个“学习率”参数(gHV,gLV),而且其中所述至少一个“学习率”参数是固定且预定的。
7.根据权利要求1或2所述的放射设备(1),其中,在所述曝光的开始处,所述控制系统(30)适于:
-用于根据通过接口系统(40)设置的阳极电压值(SV)来生成所述第一信号(HV),以及
-用于生成作为所述期望值(DI)和所设置的所述阳极电压值(SV)的函数的所述第二信号(LV)。
8.根据权利要求7所述的放射设备(1),其中,生成所述第二信号(LV)是通过固定且预定的函数来执行的。
9.根据权利要求8所述的放射设备(1),所述放射设备(1)适于在工厂处至少第一次校准,其中所述校准包含多项式函数的重心插值。
10.根据权利要求1或2所述的放射设备(1),其中,所述控制系统(30)实现取决于所述曝光的长度的控制。
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