[发明专利]一种CAB无钎剂钎焊的焊片在审

专利信息
申请号: 201710075403.6 申请日: 2017-02-13
公开(公告)号: CN106695157A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 梅长兴;刘浩;陆青松;麦小波;韩琦;周孝侠 申请(专利权)人: 浙江银轮机械股份有限公司
主分类号: B23K35/02 分类号: B23K35/02;B23K35/28;B23K35/36
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司33100 代理人: 沈孝敬
地址: 317200 浙江省台州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 cab 无钎剂 钎焊
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种在铝合金热交换器上使用的钎焊片,尤其是涉及一种非氧化性气氛钎焊炉无钎剂钎焊的钎焊片,具体地说是一种CAB无钎剂钎焊的焊片。

背景技术

下文关于对合金成分或优选合金成分的任何说明,提到百分比时都是指重量百分比,除非另作说明。

铝合金热交换器的炉中钎焊方法主要有两种,一种为真空钎焊,另外一种为CAB钎焊(可控气氛保护钎焊)。

真空钎焊利用抽真空系统对钎焊炉膛进行抽真空,保证炉膛真空度高于3×10-3Pa,钎焊时利用钎焊复合板中的Mg元素在高温、高真空条件下的挥发去除铝合金表面氧化膜,从而实现钎焊。因此真空钎焊对炉体密封性要求高,抽真空系统复杂,并且真空条件下利用辐射加热,加热速率低,钎焊时间长。

CAB钎焊目前普遍采用Nocolok钎剂去除氧化膜,因此也称为CAB Nocolok钎焊。Nocolok钎剂能够在非氧化性气氛条件下促进钎焊过程的进行,解决了真空钎焊效率低的缺点。但Nocolok钎焊增加了喷钎剂工序,造成了粉尘污染问题。此外,Nocolok钎焊后钎剂在产品中残留,无法清除干净,造成产品清洁度低,无法满足某些热交换器的高清洁度需求。

对此,最近提出了作为解决上述问题的钎焊方法的CAB无钎剂钎焊。

在中国专利申请公开号CN102089117B中,公开了一种钎焊铝板材。该钎焊铝板材具有五层结构,包括铝芯合金层、第一钎焊包覆层、以及设置在铝芯合金层和第一钎焊包覆层之间的第二钎焊包覆层;通过在第一钎焊包覆层材料中保持很低的镁含量,且可控制地有意添加镁到第二钎焊包覆层材料中,成功应用在不使用钎焊剂的可控气氛钎焊工艺中。这种结构的钎焊铝板材通常被用来制造成型或成形的产品。在某些场合,也可用作焊料使用,但是这种使用方法,其芯层起不到任何作用,故造成材料浪费。

另外,对于复杂结构的产品,如挤压、机械加工的法兰等铝合金热交换器零件,其原料通常为3XXX或6XXX的单层铝合金,而不是上述专利的5层钎焊复合板,因而需要外加钎焊材料才能焊接。常规的方法是采用厚度非常薄、成型性优良的钎焊箔制造成符合钎焊要求的钎焊圈,放入待钎焊区域进行钎焊。由于钎焊部位非常狭小,而上述5层钎焊复合板的厚度通常超过300μm,因此无法应用在这些空间狭小的场合。

此外,目前已经工业化生产的4045铝合金钎焊片和4104铝合金钎焊片,分别用于可控气氛保护Nocolok钎焊和真空钎焊,但这两种钎焊片无法用于CAB无钎剂钎焊。

发明内容

本发明要解决的是现有技术存在的上述技术问题,旨在提供一种结构和工艺相对简单,用料较少,制造成本较低的CAB无钎剂钎焊的焊片。

为解决上述问题,本发明采用了以下技术方案:一种CAB无钎剂钎焊的焊片,包括钎料层和包覆在钎料层两侧的皮层,其特征在于所述的钎料层含有5%~15%的硅,0.01%~1%的镁和0.05%~0.15%的铋,所述的皮层含有3%~12%的Si和少于0.10%的镁。

本发明的一种CAB无钎剂钎焊的焊片,与现有技术相比具有以下有益效果:

1、本发明的无钎剂焊片,钎料层为高硅含镁层,皮层为低硅无镁层。在钎焊过程中,钎料层内的Mg加热后扩散逸出,Mg与Al2O3生成颗粒状的MgAl2O4,弥散分布在铝合金表面,从而破坏了氧化膜的连续性,促进了钎料的润湿铺展,从而实现CAB无钎剂钎焊。同时,钎料层还含有浸润元素铋,可增加材料的流动性,使焊钎缝饱满。

2、本发明的多层钎焊片没有芯层,钎焊时焊片全部熔化,流入待钎焊区域,钎缝成形美观,产品质量好,无残留,无钎剂污染,产品钎焊效率高。

3、本发明的焊片采用三层结构,可以制成很薄的薄片,应用于复杂部件以及钎焊部位非常狭小的场合,如挤压零件、机加工零件等铝合金的CAB无钎剂钎焊,因而适用性非常广。

4、本发明的三层钎焊片,结构非常简单,制作工艺也较简单,可节省材料用量,降低制造成本。

根据本发明,皮层的固相线温度高于钎料层,对钎料层起到保护作用,使钎料层熔化后镁元素不被氧化。

根据本发明,所述的钎料层含有8%~13%的硅,0.05%~0.5%的镁和0.05%~0.15%的铋。

根据本发明,所述的皮层含有4%~10%的Si和少于0.05%的镁。

根据本发明,所述钎料层的厚度为50~250μm。

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