[发明专利]用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备在审
| 申请号: | 201710063890.4 | 申请日: | 2017-02-04 |
| 公开(公告)号: | CN106873314A | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
| 发明(设计)人: | 韩建崴;廖平强;李源;曲鲁杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市优盛科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 | 代理人: | 冯汉桥 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市南山区西丽街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 高精度 制作 数字化 双面 同时 曝光 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种平面印刷网版制作的微纳加工技术,特别是一种用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备。
背景技术
目前,平面网版印刷技术在PCB行业、平板显示行业、集成电路封装等行业有着广泛的应用。传统的网版制作是采用菲林工艺,将要印刷的问题及图形做在菲林底片上,再用菲林底片作为文字与图案的掩模板,通过传统的平行曝光机将文字、图案曝光复制在涂有感光胶的丝网上,再通过显影、清洗等工艺,在丝网上形成印刷母版用的文字及图案。很显然,传统工艺存在产能低下、工艺复杂且不易控制、菲林成本较高等固有缺点。
基于数字微反射镜(Digital Micro-mirror Device,DMD)为核心部件的单面直写系统在PCB行业及网版制作行业广泛应用,并以其低廉的成本及高效清晰、高对比度的成像效果等优势正逐步替代传统的菲林工艺。然而,现有的激光直写式曝光机仍存产能低、系统适应性弱、非智能化控制等缺点。特别是对于高精度金属网版双面涂胶曝光工艺中由于金属网版不透明,需要两次曝光,因而采用单面直写式系统在效率、对准精度、产品质量、产能等方面仍然存在难以克服的问题。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种用于大面积印刷网版制作的双面数字式直写设备,目的在于克服单面激光直写式曝光机产能低、系统适应性弱、非智能化控制等缺点。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,其特征在于:包括主控计算机、设置于曝光基板两侧且能够通过光速扫描曝光基板的光引擎、及能够使曝光基板与光引擎两者产生相对平面运动的移动平台,所述移动平台及光引擎均受主控计算机控制,该光引擎包括光学系统及内设微反射镜阵列的DMD芯片,且两相对应的所述光引擎所发出的光束的光轴重合,并与曝光基板相垂直。
所述移动平台为龙门式移动平台,且其包括工作平台,工作平台上相对安装有可移动的龙门架,所述龙门架上安装有可移动的所述光引擎, 且该光引擎能够发射光束扫描安装于工作平台上的曝光基板。
所述移动平台为桥架式移动平台,且其包括工作平台,工作平台上相对安装有固定的桥架,且桥架下方设置有可于工作平台上移动的滑架,所述桥架上安装有可移动的所述光引擎, 且该光引擎能够发射光束扫描安装于工作平台或是滑架上的曝光基板。
所述光学系统是由光源系统及光学成像系统组成,光源系统由能够对光束进行匀化处理使光束光强分布均匀的匀光系统和将光源系统发出的光整形进入匀光系统并将匀光后的光束准直后按一定角度发射到DMD芯片上准直系统组成。
所述的匀光系统采用的是光学积分器光棒或复眼或DOE光学器件。
所述的光学成像系统是由多组光学镜片组成。
本发明的有益效果是:
本发明采用了双面同时曝光的计算机直写式设备对于不透明介质的双面图形同时一次曝光完成,具有双面对准精度高、效率高、曝光图形质量好、节省人力及生产成本,可广泛用于网版、PCB板、半导体晶元、显示面板等具有双面同时进行图形曝光的产品上,无需掩模板、菲林等。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是立式龙门单光引擎双面曝光结构;
图2是立式桥架单光引擎双面曝光结构;
图3是立式龙门多光引擎双面曝光结构;
图4是立式桥架多光引擎双面曝光结构;
图5是卧式龙门单光引擎双面曝光结构;
图6是卧式桥架单光引擎双面曝光结构;
图7是卧式龙门多光引擎双面曝光结构;
图8是卧式桥架多光引擎双面曝光结构。
具体实施方式
参照图1至图8,本发明公开了一种用于高精度网版制作的数字化双面同时直写曝光设备,本设备包含两种结构,一种是龙门式结构,另一种是桥架式结构;
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