[发明专利]有机发光显示装置和制造有机发光显示装置的方法

权利要求书

1.一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：

在包括第一电极的基底上形成剥离层，所述剥离层包括含氟聚合物；

在所述剥离层上形成图案层；

利用第一溶剂蚀刻所述图案层的图案之间的所述剥离层，以暴露所述第一电极；

在所述第一电极和所述图案层上形成有机功能层，所述有机功能层包括发射层；

利用第二溶剂去除所述剥离层的剩余部分；以及

在所述有机功能层上形成第二电极，

其中所述图案层包括：包括具有比所述剥离层的表面能更大的表面能的材料的第一图案层；和包括具有比所述第一图案层的表面能更小的表面能的材料的第二图案层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述含氟聚合物包括20重量％至76重量％的氟。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案层通过印刷法形成。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述第一图案层和所述第二图案层同时形成在所述剥离层上。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述图案层包括非氟基聚合物材料。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述图案层包括含有小于20重量％的氟的氟基聚合物。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图案层包括非氟基聚合物材料，所述第二图案层包括含氟表面活性剂。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一图案层围绕所述第二图案层。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述有机功能层进一步包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和/或电子注入层。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述有机功能层通过沉积工艺形成。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一溶剂包括氟。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二溶剂包括氟。

13.根据权利要求1所述的方法，其中，当蚀刻所述图案层的图案之间的所述剥离层时，所述剥离层在所述图案层下形成底切轮廓。

14.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：形成围绕所述第一电极的边缘的像素限定层。

15.一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括：

在基底上形成多个第一电极；

执行第一单元工艺，执行所述第一单元工艺包括：

在包括所述多个第一电极的所述基底上形成剥离层，所述剥离层包括含氟聚合物；

在所述剥离层上形成具有设定形状的图案层；

利用第一溶剂蚀刻在所述图案层的图案之间的所述剥离层，以暴露所述多个第一电极中的第一个第一电极；

在所述第一个第一电极和所述图案层上形成第一有机功能层，所述第一有机功能层包括发射层；以及

利用第二溶剂去除所述剥离层的剩余部分；

在执行所述第一单元工艺之后，执行至少一次用于在所述多个第一电极中的与所述第一个第一电极不同的第二个第一电极上形成第二有机功能层的第二单元工艺，所述第二有机功能层被配置为发射与所述第一有机功能层的颜色不同的颜色的光；以及

在执行所述第一单元工艺和所述第二单元工艺中的每个之后形成第二电极，

其中所述图案层包括：包括具有比所述剥离层的表面能更大的表面能的材料的第一图案层；和包括具有比所述第一图案层的表面能更小的表面能的材料的第二图案层。