[发明专利]一种新的阿莫西林颗粒

说明书

技术领域

本发明涉及一种颗粒剂及其制备方法,尤其涉及一种新的阿莫西林颗粒及其制备方法，属于医药技术领域。

背景技术

阿莫西林(Amoxicillin)，又名羟氨苄青霉素，其化学名称为(2S，5R，6R)-3,3-二甲基-6-[(R)-(-)-2-氨基-2-(4-羟基苯基)乙酰氨基]-7-氧代-4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷-2-甲酸三水合物，分子式为C₁₆H₁₉N₃O₅S·3H₂O，分子量为419.46。阿莫西林的性状为类白色或白色粉末，呈结晶状，味微苦，不溶于乙醇，微溶于水，其化学结构式为：

阿莫西林是半合成青霉素类抗生素，对革兰阳性菌和某些革兰阴性菌都具有良好的抗菌作用。阿莫西林在体内抗菌作用明显优于氨苄青霉索，其抗菌活性起主要作用的基本结构是6-氨基青霉烷酸中的β-内酰胺环，可专一性地与细菌内膜上靶位点结合，抑制细菌细胞壁黏肽合成酶的活性，从而阻碍细胞壁黏肽的合成，使细菌的细胞壁缺损，菌体膨胀裂解。阿莫西林是目前应用较为广泛的口服青霉素之一，其制剂有胶囊、片剂、颗粒剂、分散片等等。

目前市场上的阿莫西林颗粒大多采用传统生产工艺，采用湿法制粒，而阿莫西林原料对湿热非常敏感，传统的湿法制粒生产工艺对产品质量产生影响，含量下降明显，有关物质尤其是高分子杂质增加显著，产品稳定性差。而已有研究表明，阿莫西林自身聚合形成不同聚合度的混合物，是引发过敏反应的主要原因。控制阿莫西林制剂中的高分子杂质含量，是减少青霉素类抗生素过敏反应、提高药物安全性的根本途径。因而目前市售阿莫西林颗粒存在杂质较高、稳定性差等问题。

专利CN201010556659.7涉及一种阿莫西林颗粒及其制备工艺，该颗粒制备工艺中采用低水分、易挥发的黏合剂溶液和低温干燥技术，避免温湿度对产品质量的影响，产品质量和稳定性得到一定改善，但对杂质的控制还是不够理想，会增加药物不良反应的发生。

因此，临床上急需开发出一种更稳定、更安全的阿莫西林颗粒产品。

发明内容

本发明目的在于，针对现有技术的缺陷，提供了一种新的阿莫西林颗粒，该阿莫西林颗粒的活性成分是一种不同于现有技术的新晶型的阿莫西林化合物，并通过实验证实，该种晶型的阿莫西林化合物的稳定性优于已有晶型，杂质含量低，且能保持药物长时间放置后含量下降很少，有利于制剂的长期稳定，从而保证了用药的安全性。

为实现本发明目的，采用以下技术方案：

本发明提供一种新的阿莫西林颗粒，该新的阿莫西林颗粒由以下重量份的组分制备而成：阿莫西林125g～250g、碳酸氢钠6300g～10800g、乙交酯丙交酯共聚物(34.7：65.3)0.10g～0.50g、羧甲基淀粉钠120g～260g、硬脂富马酸钠130g～280g、甘露醇1500g～3250g、乳糖1520g～3090g、蔗糖13000g～26500g、淀粉12500g～25800g、聚维酮K30 30g～56g、甜橙香精108g～220g、安赛蜜116g～220g；

其中，所述阿莫西林为新晶型的阿莫西林，如式(I)所示：使用Cu-Ka射线测量得到的X-射线粉末衍射图谱中在2θ为11.62±0.1°、16.29±0.1°、17.51±0.1°、20.04±0.1°、20.80±0.1°、22.32±0.1°、23.01±0.1°、27.56±0.1°处显示特征峰。

上述一种新的阿莫西林颗粒，所述新晶型的阿莫西林的差示扫描量热图谱在163℃-168℃有一个吸热峰。

上述一种新的阿莫西林颗粒，所述新晶型的阿莫西林，使用Cu-Ka射线测量得到的X-射线粉末衍射图谱中在2θ为5.78±0.1°、11.82±0.1°、12.57±0.1°、13.78±0.1°、15.73±0.1°、16.84±0.1°、18.81±0.1°、19.28±0.1°、23.44±0.1°、24.69±0.1°、25.08±0.1°、27.80±0.1°、28.82±0.1°、33.06±0.1°、33.71±0.1°处显示特征峰。

上述一种新的阿莫西林颗粒，所述新晶型的阿莫西林的差示扫描量热图谱在166.50±2℃处有吸热峰。

根据前述的新的阿莫西林颗粒，其中，所述新晶型的阿莫西林的制备方法包括以下步骤：