[发明专利]一种具有负离子功能的陶瓷砖及其生产方法

权利要求书

1.一种具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，包括：坯体、坯体上表面的瓷质层，所述瓷质层为一层具有高温成瓷性能的瓷质材料，主要成分与所述坯体相同，但其中K₂O+Na₂O：6~8%，杂质≤4%（均为重量百分比），负离子添加剂：1%~15%。

2.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于瓷质层上还有印刷装饰层。

3.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述的瓷质层是通过湿法淋浆工艺、成型前的干法布料工艺、丝网印刷、辊筒印刷，或是以上两种或两种以上施布方式的组合形成的。

4.根据权利要求2所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述的印刷装饰层是通过丝网印刷、辊筒印刷、普通喷墨印刷、渗透喷墨印刷，或是以上两种或两种以上印刷方式的组合形成的。

5.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述负离子添加剂的化学通式为：XY₃Z₆[Si₆O₁₈][BO₃]₃R₄，其中X的位置主要被Na、K、Ca占据，Y的位置主要被Mg、Fe、Li、Al、Mn占据，Z的位置主要被Al、Cr、Fe、V占据，R的位置主要被OH、F占据。

6.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述的负离子添加剂具有良好的负离子释放能力，负离子添加剂的负离子平均释放浓度不低于20000个/cm³。

7.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述的瓷质层中包含辅助着色添加剂。

8.根据权利要求7所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述辅助着色添加剂包括ZnO 0.1%~1%、TiO₂ 0.2%~2%、无定形SiO₂ 1%~8%。

9.根据权利要求1所述的具有负离子功能的陶瓷砖，其特征在于，所述瓷质层厚度为0.3~1.5mm。

10.一种生产权利要求1-9任一项所述的具有负离子功能陶瓷砖的生产方法，所述生产方法如下：

a) 按常规方法制备陶瓷砖坯体，备用；

b) 制备具有高温成瓷性能的瓷质材料，其主要成分与步骤a)中陶瓷砖坯体相同，但其中K₂O+Na₂O：6~8%，杂质≤4%（均为重量百分比），负离子添加剂：1%~15%，备用；

c) 将步骤b)制备的瓷质材料施布于步骤a)的陶瓷砖坯体表面，形成瓷质层，干燥；以及，必要时，包括如下步骤d）；

d) 在步骤c)施布过瓷质层的坯体表面进行印刷装饰，形成印刷装饰层，干燥；

e) 将步骤c）或d)干燥后的陶瓷砖坯于1150~1250℃，40~120min入窑烧成；以及，必要时，还包括步骤f）；

f) 对步骤e)烧成后的陶瓷砖进行磨边处理。

11.根据权利要求10所述的具有负离子功能的陶瓷砖的生产方法，其特征在于，步骤b)中所述负离子添加剂的化学通式为：XY₃Z₆[Si₆O₁₈][BO₃]₃R₄，其中X的位置主要被Na、K、Ca占据，Y的位置主要被Mg、Fe、Li、Al、Mn占据，Z的位置主要被Al、Cr、Fe、V占据，R的位置主要被OH、F占据。

12.根据权利要求10所述的具有负离子功能的陶瓷砖的生产方法，其特征在于，步骤b)中所述的负离子添加剂具有良好的负离子释放能力，负离子添加剂的负离子平均释放浓度不低于20000个/cm³。

13.根据权利要求10所述的具有负离子功能的陶瓷砖的生产方法，其特征在于，步骤c)中所述的瓷质层中可以引入辅助着色添加剂。