[发明专利]多孔结构及其制造方法有效
申请号: | 201710034680.2 | 申请日: | 2013-01-23 |
公开(公告)号: | CN107031037B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | R.L.兰东 | 申请(专利权)人: | 史密夫和内修有限公司 |
主分类号: | B29C64/153 | 分类号: | B29C64/153;B29C64/386;B29C64/393;B22F3/105;B33Y50/00;B33Y50/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 邹松青;谭祐祥 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 结构 及其 制造 方法 | ||
1.一种用于利用机器来制造多孔结构的方法,所述方法包括以下步骤:
a. 产生要由所述机器制造的多孔结构的模型,所述产生步骤包括如下步骤:限定所述多孔结构的支柱,其中,所述支柱包括第一节点、第二节点、以及在所述第一节点和所述第二节点之间的主体;
b. 向所述支柱分配局部坐标系,所述局部坐标系不同于限定所述机器的构建平面的机器坐标系;
c. 通过沿垂直于所述构建平面的方向修改所述支柱的尺寸来修正所述机器的方向差异,其中,所述修改步骤不会产生所述第一节点和第二节点的位置的任何改变;以及
d. 根据具有修改支柱的另一模型通过使可熔材料暴露于能量源利用所述机器来制造所述多孔结构;
其中,所述修改步骤包括如下步骤:将所述支柱的三维体积投影到所述构建平面,使得所述第一节点和第二节点处于所述构建平面中;向被投影到所述构建平面的所述支柱的所述尺寸应用缩放因数以产生经缩放的三维体积;以及将在所述构建平面中的所述经缩放的三维体积投影回所述局部坐标系中的初始位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述尺寸选自由厚度和长度构成的组。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述缩放因数至少基于在用于将可熔材料暴露于能量源的机器中待被补偿的与所述方向差异相关的误差。
4.一种用于利用机器来制造多孔结构的方法,所述方法包括以下步骤:
a. 产生要由所述机器制造的多孔结构的模型,所述产生步骤包括如下步骤:限定所述多孔结构的支柱,其中,所述支柱包括第一节点、第二节点、以及在所述第一节点和所述第二节点之间的主体;
b. 向所述支柱分配局部坐标系,所述局部坐标系不同于限定所述机器的构建平面的机器坐标系;
c. 通过沿垂直于所述构建平面的方向修改所述支柱的尺寸来修正所述机器的方向差异;以及
d. 根据具有修改支柱的另一模型通过使可熔材料暴露于能量源利用所述机器来制造所述多孔结构;
其中,所述修改步骤包括如下步骤:将所述支柱的三维体积投影到所述构建平面,使得所述第一节点和第二节点处于所述构建平面中;向被投影到所述构建平面的所述支柱的所述尺寸应用缩放因数以产生经缩放的三维体积;以及将在所述构建平面中的所述经缩放的三维体积投影回初始位置。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述修改步骤至少基于在用于将所述可熔材料暴露于能量源的机器中待被补偿的误差。
6.根据权利要求4所述的方法,其中,所述尺寸选自由厚度和长度构成的组。
7.根据权利要求4所述的方法,其中,所述缩放因数至少基于相对于所述构建平面的距离而改变。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于史密夫和内修有限公司,未经史密夫和内修有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710034680.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种维生素纳米化颗粒制备设备
- 下一篇:一种具有抽真空系统的智能型油墨反应釜