[发明专利]镀覆装置

权利要求书

1.一种镀覆装置,其特征在于，具备：

阳极和一对阴极，设置于镀覆槽内；

镀覆电源，用于在所述阳极和所述一对阴极之间流过电流；以及

反馈电路，在流过所述一对阴极的电流的合计值保持恒定的状态下，使一方的所述阴极的电位与另一方的所述阴极的电位一致。

2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，具备：

第一电流计，测量流过一方的所述阴极的电流值；

第二电流计，测量流过另一方的所述阴极的电流值。

3.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，具备：

控制部，基于所述第一电流计和所述第二电流计的测量结果，算出所述一对阴极的各自的镀覆的推断析出量；

所述控制部存储流过所述阴极的电流值与镀覆的实际析出量之间的关联性，通过使用所述第一电流计和所述第二电流计的测量结果以及参照所述关联性，得到镀覆的所述推断析出量。

4.根据权利要求3所述的镀覆装置，其特征在于：

所述控制部基于所述第一电流计和所述第二电流计的测量结果，算出所述一对阴极的各自的镀覆的理论析出量，基于所述推断析出量和所述理论析出量，算出所述一对阴极的电流效率。

5.根据权利要求3或权利要求4所述的镀覆装置，其特征在于：

所述控制部基于所述阳极与一方的所述阴极之间的距离、所述阳极与另一方的所述阴极之间的距离、以及所述一对阴极的各自的镀覆的所述推断析出量，由下述式(1)算出均匀电沉积指数，所述均匀电沉积指数是表示在一对阴极析出的镀覆的均匀性的程度的参数，

T_A＝{(d₂/d₁)-(A₁/A₂)}/{(d₂/d₁)+(A₁/A₂)-2}×100 (1)

其中，在所述式(1)中，T_A是均匀电沉积指数，d₁是靠近阳极的阴极与所述阳极的距离，d₂是远离所述阳极的阴极与所述阳极的距离，A₁是靠近所述阳极的所述阴极的推断析出量，A₂是远离所述阳极的所述阴极的推断析出量。

6.根据权利要求2所述的镀覆装置，其特征在于，具备:

控制部，基于所述第一电流计和所述第二电流计的测量结果，算出作为流过所述一对阴极的电流的比的电流分配比。