[发明专利]将一光敏层曝光之装置及方法

说明书

本发明系关于用于曝光一光敏层(9)之一方法，该光敏层(9)具有一光学系统(8)，在各情况中，至少一光线(6,6')由至少一光源(7)产生且一曝光图案(24,24',24'',24''')之像素(23)由至少一微镜装置(1)照明，该至少一微镜装置(1)具有在各情况中具有一镜强度分布(22,22',22'')的多个微镜(3)，其特征在于为得到曝光图案(24,24',24'',24''')之一图案强度分布而重迭相邻微镜(3)之镜强度分布(22,22',22'')发生为曝光图案(24,24',24'',24''')之各经照明像素(23)之镜强度分布(22,22',22'')之一总和。此外，本发明系关于使用一光学系统(8)来曝光一光敏层(9)之一装置，该光学系统具有：至少一光源(7)，其用于产生至少一光线(6,6')，至少一微镜装置(1)，其具有多个微镜(3)，其中各微镜(3)用于照明具有一镜强度分布(22,22',22'')的一曝光图案(24,24',24'',24''')之一像素(23)，其中光学系统(8)依一方式建构，使得为形成曝光图案(24,24',24'',24''')之一图案强度分布而重迭相邻微镜(3)之镜强度分布(22,22',22'')发生为曝光图案(24,24',24'',24''')之各经照明像素(23)之镜强度分布(22,22',22'')之一总和。

【技术领域】

本发明系关于根据技术方案1之一种用于将一光敏层曝光之方法以及根据技术方案8之一种对应装置。

【先前技术】

数字微镜装置(DMD)已在先前技术中长久为人所知。此等系由可经个别移动/对准之多个小反射镜组成的光学组件。可依一目标方式来电控制及定向各反射镜。因此，具有一DMD之一光学系统可用于依一选择性空间解析方式来偏转一广泛光线。大部分情况下，每个反射镜仅观察到两个完全偏转之位置。一反射镜允许落在其上之光线部分进一步穿过光学系统或其反射该光线部分使得该光未在光学系统中经转递。然后，我们可将此DMD之各反射镜解译为一数字光开关。

此类型之DMD已用于先前技术中(主要用于投影仪)。DMD亦日益用于诸如(例如)3D打印、3D量测及无屏蔽微影术之工业领域中。

在先前技术中，仅已知无屏蔽曝光单元，其等具有照明该DMD (且因此照明待曝光表面)的一单一光源。

因此，本发明之目标在于克服先前技术之缺点，且特定而言之，在于获得一经改良曝光结果。

【发明内容】

藉由相互搭配之专利请求项之目标及下文中揭示之发明概念来实现此目标。本发明之有利发展方案详细说明于附属请求项中。本说明书中详细说明之至少两个特征之全部组合、申请专利范围及/或图式亦落入本发明之范畴。就值范围而言，处于所提及之极限内的值亦应被揭示为极限值且可依任何所要组合来申请。

特定而言之，本发明指示如何实施一经改良之更快、高分辨率曝光程序及一曝光如何可同时发生于不同聚焦深度处。

本发明之核心概念在于依一方式建构一光学系统之一微镜装置之微镜，使得微镜之各镜强度分布经重迭或经建构使得其可分别与相邻镜强度分布重迭。因此，各镜强度分布由对应于该像素之一区域及该围绕该像素之一区域组成。该等镜强度分布至少主要(较佳全部)由光学组件及该等微镜之几何形状来界定。该等微镜较佳为矩形，更佳为正方形。亦可设想圆形或三角形微镜。一DMD影像系由包含重迭之像素形成的。

特定而言之，产生由至少部分与一图案强度分布重迭之复数个镜强度分布组成的一曝光图案。因此，图案强度分布系重迭之镜强度分布之一总和。曝光图案较佳将待曝光之一层区段曝光于一基板上，其中该曝光图案之图案强度分布归因于重迭而较佳比来自先前技术之无重迭之一曝光图案更均匀。