[发明专利]将一光敏层曝光之装置及方法在审
| 申请号： | 201680091750.1 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN110337611A | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | B.塔尔纳;B.波瓦扎伊 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 胡莉莉;刘春元 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 强度分布 曝光图案 微镜 光学系统 光敏层 像素 微镜装置 曝光 重迭 光源 图案 方式建构 | ||
1. 一种用于曝光一光敏层(9)之方法，该光敏层(9)具有一光学系统(8)，在各情况中，至少一光线(6, 6')由至少一光源(7)产生且一曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之数个像素(23)由至少一微镜装置(1)照明，该至少一微镜装置(1)具有在各情况中具有一镜强度分布(22, 22', 22'')的多个微镜(3)，其特征在于为得到该曝光图案(24, 24', 24'',24''')之一图案强度分布而重迭相邻微镜(3)之镜强度分布(22, 22', 22'')发生为该曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之各经照明像素(23)之该等镜强度分布(22, 22', 22'')之一总和。
2. 如请求项1之方法，其中归因于该重迭，该图案强度分布比各镜强度分布(22, 22',22'')更均匀。
3. 如请求项1或2之方法，其中该等镜强度分布，特定而言之，基于该等微镜(3)之该几何形状产生数个像素(23)，该等像素大于该曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之个别图案。
4. 如请求项1或2之方法，其中特定而言之，循序照明至少两个曝光图案(24, 24',24'', 24''')，且该等曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之该等图案强度分布经重迭为一总和以形成该光敏层(9)之一曝光强度分布。
5. 如请求项1或2之方法，其中藉由该等微镜(3)在该曝光图案(24, 24', 24'',24''')中之不清晰成像来发生该重迭。
6. 如请求项4之方法，其中一个接一个循序照明之两个曝光图案(24, 24', 24'',24''')经位移以在该微镜装置(1)与小于一像素宽度的该光敏层(9)之间具有一相对位移，该光敏层(9)较佳小于一像素宽度之一半、更佳小于一像素宽度之四分之一。
7. 如请求项1或2之方法，其中该曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之曝光图案网格线经配置倾斜延伸及/或经畸变，特定而言之，仿射畸变，该等曝光图案网格线系水平的，特定而言之，彼此平行延伸及/或系垂直的，特定而言之，彼此平行延伸。
8.一种使用一光学系统(8)来曝光一光敏层(9)的装置，该光学系统具有：
至少一光源(7)，其用于产生至少一光线(6, 6')，
至少一微镜装置(1)，其具有多个微镜(3)，其中各微镜(3)用于照明具有一镜强度分布(22, 22', 22'')的一曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之一像素(23)，
其特征在于该光学系统(8)依一方式建构，使得为形成该等曝光图案(24, 24', 24'',24''')之一图案强度分布而重迭相邻微镜(3)之镜强度分布(22, 22', 22'')发生为该等曝光图案(24, 24', 24'', 24''')之各经照明像素(23)之镜强度分布(22, 22', 22'')之一总和。
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