[发明专利]SELS纳米指状物侧壁涂层

权利要求书

1.表面增强发光（SELS）传感器，包括：

基底；

从所述基底上凸起的多个纳米指状物，所述纳米指状物各自包括：

具有侧壁和顶部的聚合物支柱；

覆盖所述侧壁的涂层；和

由所述聚合物支柱顶部支承并与所述聚合物支柱顶部接触的金属帽，

其中所述涂层包含至少一种选自SiO₂、氮化硅和聚四氟乙烯的材料，所述涂层并未被所述金属帽覆盖，并且所述金属帽具有未被所述涂层覆盖的暴露顶表面，

所述涂层具有至少1 nm和小于或等于20 nm的厚度，随着所述侧壁的涂层接近基底，所述涂层厚度阶梯式降低或逐渐地线性降低。

2.权利要求1的传感器，其中所述金属帽包含金或银、Cu、Pt及其作为合金或多层体系的组合。

3.用于形成表面增强发光（SELS）传感器的方法，所述方法包括：

在从基底延伸的聚合物支柱的侧壁上形成涂层；

在所述聚合物支柱的顶部形成金属帽并使其与所述聚合物支柱的顶部接触，

其中所述涂层包含至少一种选自SiO₂、氮化硅和聚四氟乙烯的材料，所述涂层并未被所述金属帽覆盖，并且所述金属帽具有未被所述涂层覆盖的暴露顶表面，

所述涂层具有至少1 nm和小于或等于20 nm的厚度，随着所述侧壁的涂层接近基底，所述涂层厚度阶梯式降低或逐渐地线性降低。

4.权利要求3的方法，其中形成所述涂层包括：

用涂层涂布所述聚合物支柱的侧壁和顶部并且去除所述涂层覆盖各聚合物支柱顶部的部分。

5.权利要求4的方法，其中使用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）将所述涂层涂布在所述聚合物支柱上。

6.权利要求3的方法，进一步包括通过用限定所述聚合物支柱的母版压印聚合物团块来形成所述聚合物支柱。

7.权利要求6的方法，其中所述聚合物团块包含紫外光致抗蚀剂，并且所述方法进一步包括：

在通过所述母版压印所述紫外光致抗蚀剂的同时固化所述紫外光致抗蚀剂；和

收回所述母版。

8.用于形成表面增强发光（SELS）传感器的方法，包括：

通过用限定聚合物支柱的母版在基底上压印聚合物团块来形成聚合物支柱；

用涂层涂布从所述基底上延伸的聚合物支柱的侧壁和顶部并且

去除所述涂层覆盖各聚合物支柱顶部的部分；和

在所述聚合物支柱顶部形成金属帽并使其与所述聚合物支柱顶部接触，

其中所述涂层包含至少一种选自SiO₂、氮化硅和聚四氟乙烯的材料，

其中所述涂层具有至少1 nm和小于或等于20 nm的厚度，随着所述侧壁的涂层接近基底，所述涂层厚度阶梯式降低或逐渐地线性降低。