[发明专利]用于在真空沉积工艺中保持基板的设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法

说明书

本公开内容提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：支撑表面(112)；电极布置(120)，所述电极布置(120)具有多个电极(122)，所述电极布置(120)经构造以提供作用在基板(10)和掩模(20)中的至少一者上的吸引力；和控制器(130)，所述控制器(130)经构造以将第一电压极性配置和不同于第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置(120)，其中控制器(130)经构造以在第一电压极性配置与第二电压极性配置之间切换。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种用于在真空沉积工艺中保持基板的设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法。本公开内容的实施方式更特别地涉及一种用于将基板保持在基本上竖直的取向中的静电吸盘(E-吸盘)。

背景技术

用于在基板上进行层沉积的技术包括例如热蒸镀(thermal evaporation)、物理气相沉积(physical vapor deposition,PVD)及化学气相沉积(chemical vapordeposition,CVD)。涂覆基板可以用于多种应用和多个技术领域。例如，涂覆基板可以用于微电子领域，诸如用于有机发光二极管(OLED)装置、具有TFT的基板、滤色器或类似的装置。

在真空沉积工艺期间，可通过基板支撑件来支撑基板，使用例如保持装置(诸如机械夹具)将基板和任选的掩模保持在基板支撑件处。基板和/或掩模应相对于彼此对准。过去，基板大小不断增加。不断增加的基板大小使得基板和掩模的运送、支撑和对准例如在不因基板破损而牺牲产量的情况下越来越具有挑战性。

此外，用于在真空腔室内保持基板的可用空间可能有限。因此，也存在减少用于在真空腔室内保持基板的支撑系统所使用的空间的需要。

鉴于上述，克服本领域的至少一些问题的用于在真空沉积工艺中保持基板的新设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法是有利的。本公开内容特别旨在提供一种用于在例如真空沉积工艺期间将基板和任选的掩模可靠地保持在精确地对准的取向中的设备、系统和方法。

发明内容

鉴于上述，提供一种用于在真空沉积工艺中保持基板的设备、用于在基板上进行层沉积的系统和用于保持基板的方法。本公开内容的其他方面、优点和特征从权利要求书、说明书和附图显而易见。

根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空沉积工艺中保持基板的设备。所述设备包括：支撑表面；电极布置，所述电极布置具有多个电极，所述电极布置经构造以提供作用在基板和掩模中的至少一者上的吸引力；和控制器，所述控制器经构造以将第一电压极性配置和不同于第二电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置，其中控制器经构造以在第一电压极性配置与第二电压极性配置之间切换。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在基板上进行层沉积的系统。所述系统包括真空腔室、在真空腔中的一个或多个沉积材料源和根据本文所述的实施方式的用于在真空沉积工艺中保持基板的设备。所述设备经构造以在真空沉积工艺期间保持基板。

根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于保持基板的方法。所述方法包括：将第一电压极性配置应用到电极布置，以提供作用在基板和掩模中的至少一者上的第一吸引力；和将不同于第一电压极性配置的第二电压极性配置应用到电极布置，以提供与第一吸引力不同的第二吸引力。

实施方式还针对用于执行所公开的方法的设备，并且包括用于执行每个所述的方法方面的设备部件。这些方法方面可通过硬件部件、由合适的软件编程的计算机、这两者的任意组合执行或以任何其他方式执行。此外，根据本公开内容的实施方式还针对用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括用于实现设备的每个功能的方法方面。

附图说明