[发明专利]减少配准及设计附近所引发的裸片内检验的噪声

权利要求书

1.一种检验系统，其包括：

控制器，其包含处理器、与所述处理器进行电子通信的电子数据存储单元以及与所述处理器及所述电子数据存储单元进行电子通信的通信端口，其中所述控制器经配置以：

使用对准目标查找器模块通过接近配准目标的共现来将所关注图案分组成一或多个对准群组；

使用与所述所关注图案偏移相同量的接近配准目标的所述共现来配准每一对准群组；

通过表决进行配准，其中所述通过表决进行配准包含测量所述所关注图案中的每一者是离群值的程度；及

将所述所关注图案分组成具有相同附近设计效应的至少一个附近群组；

其中所述控制器与经配置以产生晶片图像的再检测工具进行电子通信，其中所述再检测工具包含：

载台，其经配置以固持晶片；及

图像产生系统，其经配置以产生所述晶片图像，其中所述图像产生系统经配置以使用电子束、宽带等离子体或激光中的至少一者来产生所述晶片的所述图像。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器与基于设计的分格服务器进行电子通信。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述再检测工具是扫描电子显微镜。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述所关注图案的至少一些位于基于设计文件的再现图像中。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述所关注图案的至少一些位于所述晶片图像中。

6.根据权利要求5所述的系统，其中所述晶片图像是扫描电子显微镜图像。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器进一步经配置以在所述分组成所述一或多个对准群组之前利用取样模块执行智能取样。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器经配置以执行裸片内检验。

9.一种检验方法，其包括：

在控制器处从再检测工具接收晶片图像，其中所述再检测工具经配置以使用电子束、宽带等离子体或激光中的至少一者在经配置以固持所述晶片的载台上生成晶片的所述晶片图像；

使用所述控制器，使用对准目标查找器模块通过接近配准目标的共现来将所关注图案分组成一或多个对准群组，其中所述所关注图案的至少一些位于所述晶片图像中；

使用所述控制器，使用与所述所关注图案偏移相同量的接近配准目标的所述共现来配准每一对准群组；

使用所述控制器，通过表决进行配准，其中所述通过表决进行配准包含测量所述所关注图案中的每一者是离群值的程度；及

使用所述控制器，将所述所关注图案分组成具有相同附近设计效应的至少一个附近群组。

10.根据权利要求9所述的方法，其中在所述通过表决进行配准之前发生所述将具有相同附近设计效应的所关注图案分组，且其中对所述至少一个附近群组中的每一者执行所述通过表决进行配准。

11.根据权利要求9所述的方法，其中在所述通过表决进行配准之后发生所述将具有相同附近设计效应的所关注图案分组。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述所关注图案的至少一些位于基于设计文件的再现图像中。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述晶片图像是扫描电子显微镜图像。

14.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括在所述分组成所述一或多个对准群组之前利用取样模块进行智能取样。

15.根据权利要求9所述的方法，其中所述对准群组中的每一者中的接近配准目标的所述共现与所述所关注图案偏移相同量。