[发明专利]光学膜及其制造方法

权利要求书

1.一种光学膜的制造方法，其特征在于，其是具有固化性组合物的固化物层的光学膜的制造方法，

所述固化性组合物包含在波长365nm下的摩尔吸光系数为10000L/mol·cm以上的发光材料，

所述制造方法包含：

涂敷工序，在光学膜的至少一面涂敷所述固化性组合物；和

固化物层形成工序，通过使所述固化性组合物固化而制成固化物层，

该制造方法还包含在所述涂敷工序后，通过向所述固化性组合物照射光、测定所述固化性组合物中包含的所述发光材料的发光量，来测定所述固化性组合物的涂敷厚度的工序，

该制造方法还包含在所述固化物层形成工序后测定所述固化物层的厚度的工序。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，所述光学膜为经由包含固化性组合物的固化物层的胶粘剂层而在偏振片的至少一面层叠有透明保护膜的偏振膜，

所述固化性组合物包含在波长365nm下的摩尔吸光系数为10000L/mol·cm以上的发光材料，

所述制造方法包含：

涂敷工序，在所述偏振片及所述透明保护膜的至少一者的面上涂敷所述固化性组合物；

贴合工序，贴合所述偏振片及所述透明保护膜；和

粘接工序，经由通过使所述固化性组合物固化而得的所述胶粘剂层，使所述偏振片及所述透明保护膜粘接，

该制造方法还包含在所述涂敷工序后，通过向所述固化性组合物照射光、测定所述固化性组合物中包含的所述发光材料的发光量，来测定所述固化性组合物的涂敷厚度的工序，

该制造方法还包含在所述粘接工序后测定所述胶粘剂层的厚度的工序。

3.根据权利要求2所述的光学膜的制造方法，所述胶粘剂层的厚度为3μm以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，所述固化性组合物含有活性能量射线固化性成分。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，在将所述固化性组合物的总量设为100质量份时，所述发光材料的含量为0.01质量份～10质量份。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜的制造方法，其中，所述发光材料为香豆素及香豆素衍生物。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其中，所述香豆素衍生物具有二乙基氨基。