[发明专利]耐刮擦易清洁的涂层、其制备方法及其用途有效
申请号: | 201680027569.4 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN107995907B | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | J·莱沃;A·哈季奇;M·汉努-库雷;A·凯尔凯宁;H·耶尔维塔洛;R-L·库瓦亚;M·佩索宁 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C03C17/30 | 分类号: | C03C17/30;G06F1/16;H04M1/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张双双;刘金辉 |
地址: | 德国莱茵河*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 耐刮擦易 清洁 涂层 制备 方法 及其 用途 | ||
1.一种用于制造经涂覆的玻璃的方法,包括:
提供待涂覆的玻璃;
用液相涂层涂覆玻璃;
烘烤和/或UV硬化玻璃上的涂层;
其中通过液相涂覆沉积的涂层是通过组合以下组分而形成的:
具有化学式R11xR12ySiC3H6R13的第一单体,其中R11为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且其中x为2或3,并且其中R12为烷基,其中y为0或1,并且其中R13为环氧基、丙烯酸化物或甲基丙烯酸化物基团;
具有化学式R14aR15bSiC2H4(CF)n的第二单体,其中R14为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且其中a为2或3,并且其中R15为烷基,其中b为0或1,并且其中n为3-25的整数;和
具有化学式R16cR17dSiC2H4SiR18eR19f的第三单体,
其中R16为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且其中c=2或3,其中R17为烷基或H且其中d=0或1,其中R18为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且其中e=2或3,并且其中R19为烷基或H且其中f=0或1。
2.权利要求1的方法,其中在第一单体中R13为环氧基。
3.权利要求1或2的方法,其中第二单体具有化学式R14aR15bSiC2H4(CF)n,R14为烷氧基,并且其中a为3且n为3-25的整数。
4.权利要求1或2的方法,其中第二单体具有化学式R14aR15bSiC2H4(CF)n,其中R15为甲基,b为1,n具有与权利要求1所定义的相同的含义。
5.权利要求1或2的方法,其中在烘烤和/或UV硬化玻璃上的涂层之后,涂层的厚度为15-180nm。
6.权利要求5的方法,其中涂层的厚度为50-120nm。
7.一种在其上具有抗反射性和疏油性涂层的玻璃基材,其中涂层是在主链中具有硅、氧和碳的聚合物且进一步包含氟,其中硅的原子%为10-30,碳的原子%为10-60,氧的原子%为10-60,氟的原子%为0.1-10,并且其中涂层的折射率为1.22-1.7,铅笔硬度为7H或更大,水接触角为90度或更大,使用正十六烷测量的油接触角为20度或更大,
其中涂层通过液相涂覆沉积且通过组合以下组分而得到的:
具有下式的第一单体:
R11xR12ySiC3H6R13 VII
其中
R11为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且x为2或3,
R12为烷基,其中y为0或1,和
R13为环氧基、丙烯酸化物或甲基丙烯酸化物基团;
具有下式的第二单体:
R14aR15bSiC2H4(CF)n VIII
其中
R14为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且其中a为2或3,
R15为烷基,其中b为0或1,和
n为3-25的整数;和
具有下式的第三单体:
R16cR17dSiC2H4SiR18eR19f IX
其中
R16为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且c=2或3,
R17为烷基或H且d=0或1,
R18为烷氧基、乙酰氧基或氯基团且e=2或3,和
R19为烷基或H且其中f=0或1。
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