[发明专利]具有增强的介质和色带装卸特征的介质处理装置有效
| 申请号: | 201680026471.7 | 申请日: | 2016-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN107580554B | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
| 发明(设计)人: | L·E·斯莫伦斯基;D·L·加尔贝 | 申请(专利权)人: | 斑马技术公司 |
| 主分类号: | B41J2/32 | 分类号: | B41J2/32;B41J25/312;B41J11/04 |
| 代理公司: | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 苏娟;尹景娟 |
| 地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 增强 介质 色带 装卸 特征 处理 装置 | ||
1.一种介质处理装置,包括:
打印头组件,所述打印头组件包括打印头和打印头支架,其中所述打印头组件在第一端与第二端之间沿纵向方向延伸,且其中所述打印头支架包括偏压力接收元件;
框架,所述框架被构造为接收和支撑所述打印头组件,其中所述框架包括:第一框架部分,所述第一框架部分邻近所述打印头组件的第一端设置;以及第二框架部分,所述第二框架部分邻近所述打印头组件的第二端设置;以及
偏压元件,所述偏压元件在所述第一框架部分与所述第二框架部分之间延伸,其中所述偏压元件接合所述打印头组件的偏压力接收元件,其中:
包括所述偏压力接收元件和所述偏压元件的交叉接合结构使得所述打印头组件能够围绕两条正交轴线旋转;并且
所述第一框架部分或所述第二框架部分中的至少一个包括旋转限制止动件,以限制所述打印头组件围绕所述两条正交轴线中的至少一条旋转的程度。
2.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中:
所述偏压元件包括在所述第一框架部分与所述第二框架部分之间延伸的杆;并且
所述杆响应于接合所述偏压力接收元件而偏转。
3.根据权利要求2所述的介质处理装置,其中:
所述偏压力接收元件限定圆形接合表面;并且
所述偏压元件被构造为围绕所述圆形接合表面的一部分接合所述偏压力接收元件。
4.根据权利要求3所述的介质处理装置,其中,所述偏压力接收元件限定被构造为接收所述偏压元件的通道。
5.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,所述旋转限制止动件限制所述打印头组件围绕所述两条正交轴线旋转的程度。
6.根据权利要求5所述的介质处理装置,其中,所述两条正交轴线中的第一条在所述第一框架部分与所述第二框架部分之间延伸,所述正交轴线中的第二条正交于所述偏压力接收元件的圆形接合表面的曲率半径延伸。
7.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,由所述偏压元件施加的偏压力在所述打印头组件围绕所述两条正交轴线旋转期间保持恒定。
8.一种打印头组件,包括:
打印头,所述打印头在第一端和第二端之间沿纵向方向延伸;
打印头支架,所述打印头支架沿着所述打印头的纵向方向延伸;以及
偏压力接收元件,所述偏压力接收元件设置在所述打印头支架上,其中:
所述偏压力接收元件包括具有半径的圆形接合表面;
所述半径围绕与所述打印头延伸所沿的纵向方向垂直的轴线;并且
所述偏压力接收元件限定用于接收偏压元件的通道。
9.根据权利要求8所述的打印头组件,其中,响应于所述偏压力接收元件接合所述偏压元件,所述打印头能够相对于所述偏压元件在至少两条正交轴线上枢转。
10.根据权利要求9所述的打印头组件,其中:
所述两条正交轴线中的第一条平行于所述打印头延伸所沿的纵向方向;并且
所述两条正交轴线中的第二条平行于所述偏压力接收元件的半径延伸所围绕的轴线。
11.根据权利要求8所述的打印头组件,其中:
所述打印头沿纵向方向跨越介质供给路径延伸;
介质供给方向被限定成沿着所述介质供给路径的第一方向;
反向供给方向被限定成与所述介质供给方向相反;并且
所述打印头限定反向供给偏转表面,所述反向供给偏转表面被构造为响应于介质基底沿所述反向供给方向移动而将所述打印头引导到设置在所述介质基底上的介质单元上方。
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