[发明专利]单遍表面溅射有效

专利信息
申请号: 201680007443.0 申请日: 2016-02-12
公开(公告)号: CN107209951B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: P·H·L·阮 申请(专利权)人: 高通股份有限公司
主分类号: G06T15/08 分类号: G06T15/08;G06T15/40
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勋
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 溅射
【权利要求书】:

1.一种用于渲染的方法,其包括:

响应于确定多个溅射贴图中的溅射贴图之间的一或多个不连续部分而由至少一个处理器产生一或多个溅射贴图以加入所述多个溅射贴图以遮盖所述一或多个不连续部分;以及

由所述至少一个处理器执行积累遍次以渲染所述多个溅射贴图而不执行单独的可见性遍次,其包括通过如下步骤将所述多个溅射贴图中的溅射贴图的片段渲染成像素:

由所述至少一个处理器通过将与所述多个溅射贴图中的所述溅射贴图的所述片段相关联的片段深度值和与所述像素相关联的深度值进行比较来确定所述片段深度值是否在与所述像素相关联的所述深度值的非零偏移量以内,其中与所述像素相关联的所述深度值是从帧缓冲器中检索的,且为与最近被渲染到所述像素的所述溅射贴图的先前片段相关联的先前片段深度值;以及

响应于确定与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值在与所述像素相关联的所述深度值的所述非零偏移量以内,由所述至少一个处理器至少部分地基于与所述溅射贴图的所述片段相关联的数据向所述帧缓冲器输出所述像素的经过更新的数据,所述经过更新的数据包括与所述片段相关联的片段色彩值。

2.根据权利要求1所述的方法,其中通过所述至少一个处理器确定与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值是否在与所述像素相关联的所述深度值的所述非零偏移量以内进一步包括:

通过所述至少一个处理器确定与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值是否小于或等于与所述像素相关联的所述深度值和所述非零偏移量的总和。

3.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

响应于确定与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值不在与所述像素相关联的所述深度值的所述非零偏移量以内,通过所述至少一个处理器丢弃所述溅射贴图的所述片段不做进一步处理。

4.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

由所述至少一个处理器从所述帧缓冲器中的深度缓冲器中检索与所述像素相关联的所述深度值。

5.根据权利要求1所述的方法,其进一步包括:

由所述至少一个处理器从所述帧缓冲器的色彩缓冲器检索所述像素的当前色彩值;以及

由所述至少一个处理器通过掺混所述像素的所述当前色彩值和与所述片段相关联的所述片段色彩值来确定所述像素的经过更新的色彩值。

6.根据权利要求1所述的方法,其中通过所述至少一个处理器至少部分地基于与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述数据向所述帧缓冲器输出与所述像素相关联的所述经过更新的数据进一步包括:

通过所述至少一个处理器基于与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值确定所述像素的经过更新的深度值;以及

通过所述至少一个处理器向所述帧缓冲器输出所述像素的所述经过更新的深度值。

7.一种经配置用于图形处理的装置,其包括:

帧缓冲器;以及

至少一个处理器,其经配置以:

响应于确定多个溅射贴图中的溅射贴图之间的一或多个不连续部分而产生一或多个溅射贴图以加入所述多个溅射贴图以遮盖所述一或多个不连续部分;以及

执行积累遍次以渲染所述多个溅射贴图而不执行单独的可见性遍次,其包括通过如下步骤将所述多个溅射贴图中的溅射贴图的片段渲染成像素:

通过将与所述多个溅射贴图中的所述溅射贴图的所述片段相关联的片段深度值和与像素相关联的深度值进行比较来确定所述片段深度值是否在与所述像素相关联的所述深度值的非零偏移量以内,其中与所述像素相关联的所述深度值是从所述帧缓冲器中检索的,且为与最近被渲染到所述像素的所述溅射贴图的先前片段相关联的先前片段深度值;以及

响应于确定与所述溅射贴图的所述片段相关联的所述片段深度值在与所述像素相关联的所述深度值的所述非零偏移量以内,至少部分地基于与所述溅射贴图的所述片段相关联的数据向所述帧缓冲器输出所述像素的经过更新的数据,所述经过更新的数据包括与所述片段相关联的片段色彩值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通股份有限公司,未经高通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680007443.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top