[实用新型]一种烤箱有效

专利信息
申请号: 201621431124.6 申请日: 2016-12-23
公开(公告)号: CN206933970U 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 王丹;郑鑫;曹骥;茅忠群;诸永定 申请(专利权)人: 宁波方太厨具有限公司
主分类号: A47J37/06 分类号: A47J37/06
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司33102 代理人: 徐雪波,邓青玲
地址: 315336 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 烤箱
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种烤箱。

背景技术

随着社会的快速发展,人们对生活品质追求的不断提高,特别是对饮食方面,自制 DIY糕点、烘烤肉类等生活方式也越来越多地受到人们的喜爱。在烘烤过程中,需要经常透过玻璃,查看食物的色泽等烘烤情况。这时,烤箱内部烘烤腔的照明情况就显的尤为重要。

由于烤箱内部温度较高,因此一般采用卤素灯作为内部光源,然后卤素灯具有故障率高、光色偏暗的缺点,若是采用现有的LED白光灯作为烤箱内部光源,虽然可以明显改善烤箱内部照明情况,但是LED白光灯的发光元件为发光二极管,承受不了烘烤腔的高温。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种能使用LED白光光源的烤箱。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种烤箱,包括烘烤腔,及能对烘烤腔进行照明的照明元件,其特征在于:所述照明元件包括LED发光源及罩设在 LED发光源外的灯罩,所述灯罩外贴设有半导体制冷片,半导体制冷片的冷效应面与灯罩外侧紧贴。

作为改进,所述LED发光源为LED灯管,LED发光源设置在灯罩内部顶侧;照明元件位于烘烤腔顶部,所述半导体制冷片的冷效应面紧贴在灯罩顶部外侧。

再改进,所述半导体制冷片上方设有能将半导体制冷片的热效应面产生的热量吹散的散热风扇。

再改进,所述散热风扇的出风口与散热风道连通,该散热风道连通的入口与贯流风机连通,该散热风道连通的出口与烤箱外部连通。

再改进,所述烘烤腔的背部设有背部发热组件,该背部发热组件包括:

背部热风室盖,固定在烘烤内腔的后侧板上,并与烘烤内腔的后侧板之间形成有封闭的热风室;

背部加热元件,设置在热风室内;

热风机或风扇,包括能在外力驱动下旋转的扇叶,该扇叶设置在热风室内;

背部热风室盖上开有与热风室连通的进风口和出风口。

所述烘烤内腔的后侧板外紧贴有背部保温棉层。

所述背部保温棉层外侧安装有背部隔热板。

与现有技术相比,本实用新型的优点在于:通过在LED发光源的灯罩外贴设有半导体制冷片,这样,当灯罩内部温度较高时,半导体制冷片开始工作,吸取灯罩内部的热量,降低LED发光源的温度,而吸走的热量,可以被风扇及贯流风机带走,排除烤箱外部,这样,可以保证LED灯珠、半导体制冷片的温度不高于60℃。

附图说明

图1为本实用新型实施例中烤箱的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。

如图1所示的烤箱,包括烘烤腔1,及能对烘烤腔1进行照明的照明元件,该照明元件包括LED发光源2及罩设在LED发光源外的灯罩3,所述灯罩3外贴设有半导体制冷片4,半导体制冷片4的冷效应面与灯罩外侧紧贴。

所述LED发光源2为LED灯管,LED发光源2设置在灯罩3内部顶侧;照明元件位于烘烤腔1顶部,所述半导体制冷片4的冷效应面紧贴在灯罩顶部外侧。半导体制冷片4上方设有能将半导体制冷片4的热效应面产生的热量吹散的散热风扇5,散热风扇5的出风口与散热风道连通6,该散热风道连通的入口与贯流风机7连通,该散热风道连通的出口与烤箱外部连通。

通过在LED灯罩的顶部外侧安装半导体制冷片,这样,当灯罩内部温度较高时,半导体制冷片开始工作,吸取灯罩内部的热量,降低LED灯珠的温度,而吸走的热量,可以被风扇及贯流风机带走,排除烤箱外部。这样,可以保证LED灯珠、半导体制冷片的温度不高于60℃。

烘烤腔1的背部设有背部发热组件,该背部发热组件包括:

背部热风室盖10,固定在烘烤内腔的后侧板12上,并与烘烤内腔的后侧板12之间形成有封闭的热风室A;

背部加热元件8,设置在热风室A内;

热风机或风扇,包括能在外力驱动下旋转的扇叶9,该扇叶9设置在热风室A内;

背部热风室盖10上开有与热风室A连通的进风口和出风口;

烘烤内腔的后侧板12外紧贴有背部保温棉层11,背部保温棉层用于对热风室进行保温,防止热量散失;

背部保温棉层11外侧安装有背部隔热板13,背部隔热板13可防止热风室热量散失而影响其它电子元器件。

在烧烤模式工作时,背部加热管和热风机开始工作,热风室内的空气被加热,热风机将烹饪腔体内的冷空气通过进风口吸入热风室内,被吸入的冷空气与热风室内的热空气混合后,再在热风机的作用下通过出风口被排入烹饪腔体内,这两个过程不断循环,最终烹饪腔体内的温场会达到较高的均匀性。

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