[实用新型]一种真空气氛处理装置及样品观测系统

权利要求书

1.一种真空气氛处理装置，所述装置的顶部与外部的粒子束产生装置连接，其特征在于，所述装置包括：底部与外部的待测样品或承载所述待测样品的平台接触的吸盘、与外部的供气系统连接的第一气体控制器、与外部的抽气系统连接的第二气体控制器；其中，

所述装置的顶部设置有窗口，所述窗口用于使外部的粒子束进入所述装置；

所述第一气体控制器，用于连接所述供气系统和所述吸盘；

所述第二气体控制器，用于连接所述抽气系统和所述吸盘。

2.根据权利要求1所述装置，其特征在于，所述吸盘包括：金属波纹管、至少包括一圈弹簧的弹簧结构和密封结构；其中，

所述弹簧结构位于所述金属波纹管的波纹内部，用于支撑所述金属波纹管；

所述金属波纹管的底部与所述密封结构连接；

所述密封结构与所述待测样品或承载所述待测样品的平台接触。

3.根据权利要求1或2所述装置，其特征在于，所述供气系统向所述装置供入的气体为纯净气体或混合气体。

4.一种样品观测系统，其特征在于，所述系统包括：带电粒子束产生装置、真空气氛处理装置和样品；其中，

所述带电粒子束产生装置的镜筒底部与所述真空气氛处理装置的顶部固定连接；

所述样品或承载所述样品的平台与所述真空气氛处理装置的底部接触；

所述真空气氛处理装置包括：与所述样品或承载所述样品的平台接触的吸盘、与外部的供气系统连接的第一气体控制器以及与外部的抽气系统连接的第二气体控制器；

所述真空气氛处理装置的顶部设置有窗口，所述窗口位于所述带电粒子束产生装置底部的第一真空窗下方，用于使所述带电粒子束产生装置产生的粒子束通过所述第一真空窗后对所述真空气氛处理装置内的样品进行观测；

所述第一气体控制器，用于连接所述供气系统和所述吸盘，对所述真空气氛处理装置供气；

所述第二气体控制器，用于连接所述抽气系统和所述吸盘，对所述真空气氛处理装置抽气。

5.根据权利要求4所述系统，其特征在于，所述吸盘包括：金属波纹管、至少包括一圈弹簧的弹簧结构和密封结构；其中，

所述弹簧结构位于所述金属波纹管的波纹内部，用于支撑所述金属波纹管；

所述金属波纹管的底部与所述密封结构连接；

所述密封结构与所述样品或承载所述样品的平台接触。

6.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述供气系统向所述装置供入的气体为纯净气体或混合气体。

7.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述系统还包括至少一个探测器，所述探测器水平或倾斜位于所述真空气氛处理装置的内部顶端，用于对所述粒子束作用于样品后产生的信号进行探测。

8.根据权利要求5所述系统，其特征在于，所述系统还包括安装于所述镜筒外壁上的磁屏蔽装置，所述磁屏蔽装置的下端靠近所述密封结构，用于对所述真空气氛处理装置进行磁隔离。

9.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述平台上安装有多自由度的位移台，所述位移台用于对所述样品进行多自由度的调节。

10.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述平台上安装有加热模块和/或制冷模块，用于调整所述样品所处的环境温度。

11.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述平台上安装有扫描透射装置，所述扫描透射装置内的透射粒子探测腔的上表面设置有第二真空窗，所述透射粒子探测腔内安装有探测器，用于对作用于样品后的粒子束进行探测。

12.根据权利要求4或5所述系统，其特征在于，所述系统还包括位于所述镜筒的外侧的激光雷达模块，所述激光雷达模块，用于在所述带电粒子束产生装置移动时，确定所述吸盘的吸取位置。